恭喜ASML荷蘭有限公司達米安·烏列·波阿斯·奧瑟姆斯獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利輻射系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113396644B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202080012576.3，技術領域涉及：H05G2/00；該發明授權輻射系統是由達米安·烏列·波阿斯·奧瑟姆斯;黃壯雄;科爾馬·歐戈爾曼;蒂姆·科內利斯·古森斯;彼得·哈弗曼斯;R·奧斯特霍特;劉飛設計研發完成，并于2020-01-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本輻射系統在說明書摘要公布了：輻射系統包括輻射源SO和等離子體產生器16。所述輻射源包括：殼體9，所述殼體設置有出口孔8；和輻射產生器，所述輻射產生器能夠操作以在所述殼體中產生輸出輻射并且引導所述輸出輻射的至少一部分穿過所述出射孔。所述等離子體產生器能夠操作以產生等離子體18，所述等離子體至少部分地延伸橫穿所述輸出輻射的被引導通過所述出射孔的所述至少一部分。
本發明授權輻射系統在權利要求書中公布了：1.一種系統，包括：輻射源，所述輻射源包括：殼體，所述殼體設置有出射孔；和輻射產生器，所述輻射產生器能夠操作以在所述殼體中產生輸出輻射并且引導所述輸出輻射的至少一部分穿過所述出射孔；以及等離子體產生器，所述等離子體產生器能夠操作以產生等離子體，所述等離子體至少部分地延伸橫穿所述輸出輻射的被引導通過所述出射孔的所述至少一部分，其中，所述等離子體產生器包括至少一個等離子體產生單元，所述至少一個等離子體產生單元被布置成產生所述等離子體并引導所述等離子體至少部分地流動橫穿所述出射孔。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人ASML荷蘭有限公司，其通訊地址為：荷蘭維德霍溫；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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