恭喜洛克系統私人有限公司丁鍾才獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜洛克系統私人有限公司申請的專利改進的濺射處理和裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN111653503B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202010135380.5,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權改進的濺射處理和裝置是由丁鍾才;申允錫;張德春設計研發完成,并于2020-03-02向國家知識產權局提交的專利申請。
本改進的濺射處理和裝置在說明書摘要公布了:一種用于濺射多個IC單元的方法,該方法包括以下步驟:向保持環施加層;在該層中切割孔的陣列;將保持環轉移至模板,該模板位于放置站內;將所述孔的陣列與所述模板中的凹口的陣列對準;將IC單元傳送至所述保持環,每個IC單元對應于對準的孔和凹口;以及向與所述保持環接合的所述IC單元施加濺射方法。
本發明授權改進的濺射處理和裝置在權利要求書中公布了:1.一種用于濺射多個IC單元的方法,所述方法包括以下步驟:向放置站的保持環施加粘附層和子膠帶,使得所述子膠帶被布置成附接在所述粘附層下方;在所述粘附層和所述子膠帶中切割孔的陣列;將所述保持環轉移至模板,所述模板位于所述放置站內;將所述孔的陣列與所述模板中的凹口的陣列對準;將IC單元傳送至所述保持環,每個IC單元對應于對準的孔和凹口;以及向與所述保持環接合的所述IC單元施加濺射方法。
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