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龍圖騰網恭喜湖北大學申請的專利一種原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極及其制備方法和應用獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114121505B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111421442.X，技術領域涉及：H01G11/86；該發明授權一種原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極及其制備方法和應用是由胡永明;姜無憂;王神送;黃浩;鄧鶴鳴設計研發完成，并于2021-11-26向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極及其制備方法和應用在說明書摘要公布了：本發明提供了一種原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極及其制備方法和應用，屬于電極材料技術領域。本發明中，泡沫鎳基底充當了促進電子傳輸的導電網格，制備的電極使氮摻雜碳自生復合于Ni?CoLDH基體中，氮摻雜碳優異的導電性能夠促進電極在儲能過程中的電荷傳輸，該自生復合材料具有均勻共生、界面穩定、導電增強等特點；原位生長的Ni?CoLDH納米片陣列不僅繼承了ZIF?67的片狀結構、多孔特性和穩定性，還具有優異的親水性，并且在納米片陣列結構上還生長了大量片狀Ni?CoLDH，有效避免了Ni?CoLDH的堆疊、團聚和負載低等問題。

本發明授權一種原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極及其制備方法和應用在權利要求書中公布了：1.一種原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極的制備方法，其特征在于，包括以下步驟：將硝酸鈷、2-甲基咪唑和水混合，得到混合溶液；將泡沫鎳浸漬于所述混合溶液中密封靜置后依次進行清洗和烘干，得到ZIF-67@Nifoam電極；將硝酸鈷、硝酸鎳、六亞甲基四胺和水混合，得到金屬前驅液；將所述ZIF-67@Nifoam放入所述金屬前驅液進行水熱反應，得到所述原位自生復合氮摻雜碳與鎳鈷雙氫氧化物納米片陣列電極；所述水熱反應的溫度為80～100℃，時間為0.5～3h；所述混合溶液中硝酸鈷以六水合硝酸鈷的形式加入，所述泡沫鎳、六水合硝酸鈷、2-甲基咪唑和混合溶液中水的質量比為0.7～1：5～8：11～14：70～90；所述金屬前驅液中硝酸鈷、硝酸鎳以六水合硝酸鈷、六水合硝酸鎳的形式加入，所述金屬前驅液中六水合硝酸鈷、六水合硝酸鎳、六亞甲基四胺和水的質量比為0.2～0.4：0.7～1.2：1～1.3：30～50。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人湖北大學，其通訊地址為：430062 湖北省武漢市武昌區友誼大道368號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。