恭喜上海華力微電子有限公司何大權獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜上海華力微電子有限公司申請的專利目標版圖優化方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115657417B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211343908.3,技術領域涉及:G03F1/36;該發明授權目標版圖優化方法是由何大權;魏芳;陳翰;張辰明設計研發完成,并于2022-10-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本目標版圖優化方法在說明書摘要公布了:本發明提供了一種目標版圖優化方法,包括:對第一金屬層圖形使用標準模型進行OPC修正得到第一OPC圖形;對第一OPC圖形使用工藝窗口模型模擬得到模擬圖形,并從中標記出橋接圖形和斷線圖形;選擇第一金屬層和橋接圖形接觸的第一圖形邊并移動第一距離得到第二金屬層圖形;選擇第二金屬層圖形與斷線圖形接觸的第二圖形邊并移動第二距離得到第一目標圖形;選擇第一目標圖形與橋接圖形接觸的第三圖形邊并向圖形內部方向移動第一距離,得到第三金屬層圖形;選擇第三金屬層圖形與斷線圖形接觸的第四圖形邊并向圖形外部方向移動第二距離,得到第二目標圖形;對第二目標圖形基于標準模型和工藝窗口模型進行OPC修正,得到第二OPC圖形。
本發明授權目標版圖優化方法在權利要求書中公布了:1.一種目標版圖優化方法,其特征在于,包括:輸入第一金屬層圖形以及與所述第一金屬層圖形對應的通孔圖形;對所述第一金屬層圖形使用標準模型進行第一次OPC修正,以得到第一OPC圖形;對所述第一OPC圖形使用工藝窗口模型模擬,以得到模擬圖形,并從所述模擬圖形中根據橋接規格和斷線規格分別標記出橋接圖形和斷線圖形;選擇所述第一金屬層和所述橋接圖形接觸的第一圖形邊,向所述橋接圖形的內部移動所述第一圖形邊,移動第一距離,以得到第二金屬層圖形;選擇所述第二金屬層圖形與所述斷線圖形接觸的第二圖形邊,向所述斷線圖形的外部方向移動所述第二圖形邊,移動第二距離,以得到第一目標圖形;選擇所述第一目標圖形與所述橋接圖形接觸的第三圖形邊,向所述橋接圖形的內部移動所述第三圖形邊,移動第一距離,以得到第三金屬層圖形;選擇所述第三金屬層圖形與所述斷線圖形接觸的第四圖形邊,向所述斷線圖形的外部方向移動所述第四圖形邊,移動第二距離,以得到第二目標圖形;以及對所述第二目標圖形基于所述標準模型和所述工藝窗口模型進行OPC修正,以得到第二OPC圖形。
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