恭喜馬鞍山東毅新材料科技有限公司孟凡偉獲國家專利權
買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標用IPTOP,全免費！專利年費監控用IP管家,真方便！
龍圖騰網恭喜馬鞍山東毅新材料科技有限公司申請的專利一種低透光性復合光學薄膜及其生產工藝獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115593028B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202211407676.3，技術領域涉及：B32B3/26；該發明授權一種低透光性復合光學薄膜及其生產工藝是由孟凡偉設計研發完成，并于2022-11-10向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種低透光性復合光學薄膜及其生產工藝在說明書摘要公布了：本發明公開了一種低透光性復合光學薄膜及其生產工藝，涉及光學薄膜技術領域。一種低透光性復合光學薄膜，包括基材層、設置在基材層兩側的凸起層以及與凸起層表面粘接的遮光層，所述凸起層設置有兩層，且凸起層遠離基材層的表面為波浪形；所述遮光層整體呈波浪形鋪設在凸起層的表面，遮光層的表面設置有填平層。本發明提出的一種低透光性復合光學薄膜及其生產工藝，通過在凸起層上設置波浪形面，在后續拉伸時，能夠減小遮光層的拉伸形變，從而使得扁球形氣孔的直徑縮小，防止扁球形氣孔拉伸過大，容易出現破裂，對扁球形氣孔的拉伸力為橫向和斜向兩個方向的，避免單向拉伸造成的單向形變過度。
本發明授權一種低透光性復合光學薄膜及其生產工藝在權利要求書中公布了：1.一種低透光性復合光學薄膜，包括基材層（1）、設置在基材層（1）兩側的凸起層（2）以及與凸起層（2）表面粘接的遮光層（3），其特征在于：所述凸起層（2）設置有兩層，且凸起層（2）遠離基材層（1）的表面為波浪形；所述遮光層（3）整體呈波浪形鋪設在凸起層（2）的表面，遮光層（3）的表面設置有填平層（4），遮光層（3）內含有扁球形氣孔（31），扁球形氣孔（31）平行于薄膜平面的直徑為1-4μm，扁球形氣孔（31）垂直于薄膜平面的最大高度為0.5-0.9μm，扁球形氣孔（31）內含有實心粒子（32）。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人馬鞍山東毅新材料科技有限公司，其通訊地址為：238100 安徽省馬鞍山市和縣經濟開發區標準化廠房西區2號廠房；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
免責聲明
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
開放平臺
擔保交易
惠及多方
會員特惠
專屬平臺
適合多方
數據共享
功能齊全
皖公網安備 34010402703815號