恭喜上海富樂華半導體科技有限公司黃元昊獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜上海富樂華半導體科技有限公司申請的專利一種濕法氧化工藝用銅片架獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116426908B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-29發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310267851.1，技術領域涉及：C23C22/00；該發明授權一種濕法氧化工藝用銅片架是由黃元昊;孫見;祝林;戴洪興設計研發完成，并于2023-03-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種濕法氧化工藝用銅片架在說明書摘要公布了：本發明涉及半導體器件加工生產設備領域。一種濕法氧化工藝用銅片架，包括用于支撐銅片的支撐架，支撐架包括支撐桿，支撐桿的相對側開設有沿著軸向左右貫穿的缺口；支撐桿上套設有至少三個從左至右排布的隔離環，相鄰的隔離環相連形成寬度從內至外遞增的插片槽部；隔離環的內部鏤空，隔離環包括外環，隔離環的內側設有兩個相對設置且用于橫向滑入支撐桿的滑塊部，外環通過引導部與滑塊部相連；隔離環包括位于中部的中部隔離環、位于左端的左端隔離環以及位于右端的右端隔離環，所有的中部隔離環結構相同；支撐桿的兩端還螺紋連接有限位件，支撐桿兩端的限位件分別抵住左端隔離環以及右端隔離環。本發明可以使藥液沿銅片架徑向和縱向流動充分。
本發明授權一種濕法氧化工藝用銅片架在權利要求書中公布了：1.一種濕法氧化工藝用銅片架，包括用于支撐銅片的支撐架，其特征在于，所述支撐架包括支撐桿，所述支撐桿的相對側開設有沿著軸向左右貫穿的缺口；所述支撐桿上套設有至少三個從左至右排布的隔離環，相鄰的隔離環相連形成寬度從內至外遞增的插片槽部；所述隔離環的內部鏤空，所述隔離環包括外環，所述隔離環的內側設有兩個相對設置且用于橫向滑入所述支撐桿的滑塊部，所述外環通過引導部與所述滑塊部相連；所述隔離環包括位于中部的中部隔離環、位于左端的左端隔離環以及位于右端的右端隔離環，所有的中部隔離環結構相同；所述支撐桿的兩端還螺紋連接有限位件，所述支撐桿兩端的限位件分別抵住所述左端隔離環以及右端隔離環。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人上海富樂華半導體科技有限公司，其通訊地址為：200444 上海市寶山區山連路181號3幢；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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