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本發(fā)明授權(quán)一種醫(yī)用類(lèi)石墨涂層及其制備方法在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種醫(yī)用類(lèi)石墨涂層的制備方法，其特征在于，步驟為：分別對(duì)碳靶和鈦靶進(jìn)行第一非平衡磁控濺射，在基體表面形成過(guò)渡層；所述過(guò)渡層的厚度為500nm；所述基體為316鋼片；對(duì)碳靶和鈦靶進(jìn)行第二非平衡磁控濺射，在過(guò)渡層表面形成醫(yī)用類(lèi)石墨涂層；所述醫(yī)用類(lèi)石墨涂層的厚度為600～820nm；所述第一非平衡磁控濺射前，包括：對(duì)基體進(jìn)行清洗；所述第二非平衡磁控濺射時(shí)：碳靶的功率為4kW，電流為6.7A；鈦靶的功率為0.1kW，電流為0.34A；所述第一非平衡磁控濺射時(shí)：鈦靶的初始功率為3kW，碳靶的初始功率為0.1kW，以所述鈦靶的初始功率和碳靶的初始功率濺射840s后降低鈦靶的功率；降低鈦靶功率的同時(shí)升高碳靶的功率；所述第一非平衡磁控濺射時(shí)，惰性氣體的流量為30sccm。

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