浙江華辰芯光技術有限公司楊惠婷獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉浙江華辰芯光技術有限公司申請的專利一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119231308B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-18發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411736656.X，技術領域涉及：H01S5/028；該發明授權一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結構是由楊惠婷;李明欣;向磊設計研發完成，并于2024-11-29向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結構在說明書摘要公布了：本申請涉及半導體激光器的技術領域，尤其是涉及一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結構，選用晶格方向為[100]2?15°偏[110]的襯底；在襯底的層結構上刻蝕兩個弧形溝槽，兩個弧形溝槽的端部之間形成開口，且開口方向沿晶向[001]；對氧化限制層進行氧化，兩個弧形溝槽中間形成類圓形的氧化孔；將鈍化保護膜覆蓋在開口處及器件表面；填充開口，通過開口位置連接金屬圓環，將P極電流注入點引至外圍區域；將發光區頂部的表面鈍化層刻蝕出短、長軸比為1:1?1:2的橢圓浮雕。開口設計朝向[001]晶格方向，器件最終氧化形狀為類圓形，提高可靠性。將表面鈍化膜刻蝕出橢圓浮雕,降低相對強度噪聲，有效提高傳輸質量。
本發明授權一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結構在權利要求書中公布了：1.一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法，其特征在于：包括，S1、選用晶格方向為[100]2-15°偏[110]的襯底（1）；S2、在襯底（1）的層結構上刻蝕有兩個正對的弧形溝槽（14），兩個弧形溝槽（14）的端部之間形成有兩個開口（15），且兩個開口（15）方向沿晶向[001]；S3、對層結構內的氧化限制層（7）進行氧化，弧形溝槽（14）內暴露的高Al層發生反應，使得兩個弧形溝槽（14）中間形成類圓形的氧化孔（16）；S4、將鈍化保護膜覆蓋在開口處及器件表面形成表面鈍化層（11）；S5、填充開口（15）形成介質填充層（10），同時通過開口（15）位置連接金屬圓環，將P極電流注入點引至外圍區域形成P面歐姆接觸層（12）；S6、將發光區頂部的表面鈍化層（11）刻蝕出短、長軸比為1:1-1:2的橢圓浮雕形成偏振控制層（13）。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人浙江華辰芯光技術有限公司，其通訊地址為：214000 江蘇省無錫市新吳區震澤路18-3號射手座A座5樓502室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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