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龍圖騰網(wǎng)獲悉浙江華辰芯光技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119231308B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-18發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411736656.X，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01S5/028；該發(fā)明授權(quán)一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)是由楊惠婷;李明欣;向磊設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-11-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)在說(shuō)明書摘要公布了：本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體激光器的技術(shù)領(lǐng)域，尤其是涉及一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)，選用晶格方向?yàn)閇100]2?15°偏[110]的襯底；在襯底的層結(jié)構(gòu)上刻蝕兩個(gè)弧形溝槽，兩個(gè)弧形溝槽的端部之間形成開(kāi)口，且開(kāi)口方向沿晶向[001]；對(duì)氧化限制層進(jìn)行氧化，兩個(gè)弧形溝槽中間形成類圓形的氧化孔；將鈍化保護(hù)膜覆蓋在開(kāi)口處及器件表面；填充開(kāi)口，通過(guò)開(kāi)口位置連接金屬圓環(huán)，將P極電流注入點(diǎn)引至外圍區(qū)域；將發(fā)光區(qū)頂部的表面鈍化層刻蝕出短、長(zhǎng)軸比為1:1?1:2的橢圓浮雕。開(kāi)口設(shè)計(jì)朝向[001]晶格方向，器件最終氧化形狀為類圓形，提高可靠性。將表面鈍化膜刻蝕出橢圓浮雕,降低相對(duì)強(qiáng)度噪聲，有效提高傳輸質(zhì)量。

本發(fā)明授權(quán)一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法，其特征在于：包括，S1、選用晶格方向?yàn)閇100]2-15°偏[110]的襯底（1）；S2、在襯底（1）的層結(jié)構(gòu)上刻蝕有兩個(gè)正對(duì)的弧形溝槽（14），兩個(gè)弧形溝槽（14）的端部之間形成有兩個(gè)開(kāi)口（15），且兩個(gè)開(kāi)口（15）方向沿晶向[001]；S3、對(duì)層結(jié)構(gòu)內(nèi)的氧化限制層（7）進(jìn)行氧化，弧形溝槽（14）內(nèi)暴露的高Al層發(fā)生反應(yīng)，使得兩個(gè)弧形溝槽（14）中間形成類圓形的氧化孔（16）；S4、將鈍化保護(hù)膜覆蓋在開(kāi)口處及器件表面形成表面鈍化層（11）；S5、填充開(kāi)口（15）形成介質(zhì)填充層（10），同時(shí)通過(guò)開(kāi)口（15）位置連接金屬圓環(huán)，將P極電流注入點(diǎn)引至外圍區(qū)域形成P面歐姆接觸層（12）；S6、將發(fā)光區(qū)頂部的表面鈍化層（11）刻蝕出短、長(zhǎng)軸比為1:1-1:2的橢圓浮雕形成偏振控制層（13）。

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