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浙江華辰芯光技術(shù)有限公司楊惠婷獲國(guó)家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)獲悉浙江華辰芯光技術(shù)有限公司申請(qǐng)的專利一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN119231308B

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-18發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202411736656.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H01S5/028;該發(fā)明授權(quán)一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)是由楊惠婷;李明欣;向磊設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2024-11-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)在說(shuō)明書摘要公布了:本申請(qǐng)涉及半導(dǎo)體激光器的技術(shù)領(lǐng)域,尤其是涉及一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu),選用晶格方向?yàn)閇100]2?15°偏[110]的襯底;在襯底的層結(jié)構(gòu)上刻蝕兩個(gè)弧形溝槽,兩個(gè)弧形溝槽的端部之間形成開(kāi)口,且開(kāi)口方向沿晶向[001];對(duì)氧化限制層進(jìn)行氧化,兩個(gè)弧形溝槽中間形成類圓形的氧化孔;將鈍化保護(hù)膜覆蓋在開(kāi)口處及器件表面;填充開(kāi)口,通過(guò)開(kāi)口位置連接金屬圓環(huán),將P極電流注入點(diǎn)引至外圍區(qū)域;將發(fā)光區(qū)頂部的表面鈍化層刻蝕出短、長(zhǎng)軸比為1:1?1:2的橢圓浮雕。開(kāi)口設(shè)計(jì)朝向[001]晶格方向,器件最終氧化形狀為類圓形,提高可靠性。將表面鈍化膜刻蝕出橢圓浮雕,降低相對(duì)強(qiáng)度噪聲,有效提高傳輸質(zhì)量。

本發(fā)明授權(quán)一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法及結(jié)構(gòu)在權(quán)利要求書中公布了:1.一種高可靠性低噪聲垂直激光器的制備方法,其特征在于:包括,S1、選用晶格方向?yàn)閇100]2-15°偏[110]的襯底(1);S2、在襯底(1)的層結(jié)構(gòu)上刻蝕有兩個(gè)正對(duì)的弧形溝槽(14),兩個(gè)弧形溝槽(14)的端部之間形成有兩個(gè)開(kāi)口(15),且兩個(gè)開(kāi)口(15)方向沿晶向[001];S3、對(duì)層結(jié)構(gòu)內(nèi)的氧化限制層(7)進(jìn)行氧化,弧形溝槽(14)內(nèi)暴露的高Al層發(fā)生反應(yīng),使得兩個(gè)弧形溝槽(14)中間形成類圓形的氧化孔(16);S4、將鈍化保護(hù)膜覆蓋在開(kāi)口處及器件表面形成表面鈍化層(11);S5、填充開(kāi)口(15)形成介質(zhì)填充層(10),同時(shí)通過(guò)開(kāi)口(15)位置連接金屬圓環(huán),將P極電流注入點(diǎn)引至外圍區(qū)域形成P面歐姆接觸層(12);S6、將發(fā)光區(qū)頂部的表面鈍化層(11)刻蝕出短、長(zhǎng)軸比為1:1-1:2的橢圓浮雕形成偏振控制層(13)。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人浙江華辰芯光技術(shù)有限公司,其通訊地址為:214000 江蘇省無(wú)錫市新吳區(qū)震澤路18-3號(hào)射手座A座5樓502室;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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