恭喜福建華佳彩有限公司陳偉獲國家專利權
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龍圖騰網(wǎng)恭喜福建華佳彩有限公司申請的專利一種Top Com陣列結構獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN113838873B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產權局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202111242816.1,技術領域涉及:H10D86/60;該發(fā)明授權一種Top Com陣列結構是由陳偉;陳鑫;朱書緯;潛垚;李澈設計研發(fā)完成,并于2021-10-25向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種Top Com陣列結構在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種TopCom陣列結構,包括玻璃基板,玻璃基板上設有柵極GE層,柵極GE層上沉積有無機絕緣GI層,無機絕緣GI層上設有有源SE層,有源SE層上設有刻蝕阻擋ES層,刻蝕阻擋ES層上設有源漏極SD層,源漏極SD層上沉積出無機絕緣PV層,無機絕緣PV層上涂布一層有機絕緣OC層,并在有機絕緣OC層上開設出OC孔,無機絕緣PV層上蝕刻出PV孔,有機絕緣OC層上沉積有像素電極PE層,像素電極PE層沉積有無機CH層,無機CH層上沉積有公共電極BC層。本發(fā)明在基于現(xiàn)有的Top?Com設計原理及不改變制程工藝的情況下,通過有效使用一道光罩,使ES層干蝕刻出ES孔和PV層干蝕刻出PV孔,使原有的9道Mask減少到8道,從而達到降低生產成本、提高產品效益的目的。
本發(fā)明授權一種Top Com陣列結構在權利要求書中公布了:1.一種TopCom陣列結構的制造工藝,其特征在于:TopCom陣列結構包括玻璃基板(1),所述玻璃基板(1)上設有柵極GE層(2),所述柵極GE層(2)上沉積有無機絕緣GI層(3),所述無機絕緣GI層(3)上設有有源SE層(4),所述有源SE層(4)上設有刻蝕阻擋ES層(5),所述刻蝕阻擋ES層(5)上設有源漏極SD層(6),所述源漏極SD層(6)上沉積出無機絕緣PV層(7),所述無機絕緣PV層(7)上涂布一層有機絕緣OC層(8),并在有機絕緣OC層(8)上開設出OC孔(12),所述無機絕緣PV層(7)上蝕刻出PV孔(13),所述有機絕緣OC層(8)上沉積有像素電極PE層(9),所述像素電極PE層(9)沉積有無機CH層(10),所述無機CH層(10)上沉積有公共電極BC層(11);制造工藝具體包括以下步驟:S1、在襯底的玻璃基板(1)上制造出柵極GE層(2);S2、在柵極GE層(2)上沉積無機絕緣GI層(3);S3、在無機絕緣GI層(3)上制造出有源SE層(4);S4、在有源SE層(4)上制造出刻蝕阻擋ES層(5);S5、在刻蝕阻擋ES層(5)層上制造出源漏極SD層(6);S6、在源漏極SD層(6)上沉積出無機絕緣PV層(7);S7、在無機絕緣PV層(7)上涂布一層有機絕緣OC層(8),并開設OC孔(12);S8、采用同ES層的光罩曝光顯影蝕刻出PV孔(13);S9、在有機絕緣OC層(8)上沉積出像素電極PE層(9);S10、在像素電極PE層(9)上沉積出無機CH層(10);S11、在無機CH層(10)上沉積出公共電極BC層(11)。
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