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恭喜合肥晶威特電子有限責(zé)任公司陳維彥獲國(guó)家專利權(quán)

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龍圖騰網(wǎng)恭喜合肥晶威特電子有限責(zé)任公司申請(qǐng)的專利一種光刻wafer音叉晶片的頻率測(cè)量方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN115078826B

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-15發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202210493970.4,技術(shù)領(lǐng)域涉及:G01R23/02;該發(fā)明授權(quán)一種光刻wafer音叉晶片的頻率測(cè)量方法是由陳維彥;侯詩(shī)益;汪鑫;董書霞;袁亮;王杰;丁一奇;王磊;呂成;徐茂東;汪洋;葛軍;馬文勇設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2022-04-29向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

一種光刻wafer音叉晶片的頻率測(cè)量方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種光刻wafer音叉晶片的頻率測(cè)量方法,測(cè)量?jī)x器包括定位平臺(tái),其內(nèi)部開設(shè)有與負(fù)壓源連通的負(fù)壓管路;wafer片,固定在定位平臺(tái)上;測(cè)量系統(tǒng),設(shè)置在wafer片上方,測(cè)量系統(tǒng)的探針與頻率計(jì)連接,探針依序?qū)afer片上的各音叉晶片的根部施加振動(dòng);負(fù)壓孔,開設(shè)在定位平臺(tái)上并與負(fù)壓管路連通,負(fù)壓孔與音叉晶片位置對(duì)應(yīng);所述探針施加振動(dòng)時(shí)負(fù)壓孔關(guān)閉,所述探針離開音叉晶片后負(fù)壓孔開啟。本發(fā)明快速消耗音叉晶片的振動(dòng)能量,從而結(jié)束該區(qū)域音叉晶片的起振,使得探針到達(dá)下一測(cè)量的音叉晶片時(shí)可直接進(jìn)行測(cè)量,大幅提高了測(cè)量效率。

本發(fā)明授權(quán)一種光刻wafer音叉晶片的頻率測(cè)量方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種光刻wafer音叉晶片的頻率測(cè)量方法,其特征在于,包括如下步驟:S1、完成測(cè)量?jī)x器的組裝,該測(cè)量?jī)x器包括定位平臺(tái),其內(nèi)部開設(shè)有與負(fù)壓源連通的負(fù)壓管路;wafer片,固定在定位平臺(tái)上;測(cè)量系統(tǒng),設(shè)置在wafer片上方,測(cè)量系統(tǒng)的探針與頻率計(jì)連接,探針依序?qū)afer片上的各音叉晶片的根部施加振動(dòng);負(fù)壓孔,開設(shè)在定位平臺(tái)上并與負(fù)壓管路連通,負(fù)壓孔與音叉晶片位置對(duì)應(yīng);所述探針施加振動(dòng)時(shí)負(fù)壓孔關(guān)閉,所述探針離開音叉晶片后負(fù)壓孔開啟;S2、將wafer片放置在定位平臺(tái)上,使wafer片與各定位凸起抵接,啟動(dòng)負(fù)壓源確保wafer片通過(guò)吸附孔被負(fù)壓吸附固定,此時(shí)電磁閥關(guān)閉;S3、調(diào)整X向滑臺(tái)、Y向滑臺(tái)、Z向滑臺(tái)的位置,使探針與第一組音叉晶片根部抵接,CCD識(shí)別系統(tǒng)該音叉晶片進(jìn)行識(shí)別觀測(cè);S4、探針對(duì)音叉晶片根部施加振動(dòng),頻率計(jì)測(cè)量該音叉晶片的振動(dòng)頻率,測(cè)量完成后通過(guò)X向滑臺(tái)、Y向滑臺(tái)、Z向滑臺(tái)的相對(duì)移動(dòng)帶動(dòng)探針移動(dòng)至下一音叉晶片根部;S5、步驟S4中,探針移動(dòng)時(shí)電磁閥開啟,通過(guò)負(fù)壓孔對(duì)測(cè)量完的音叉晶片所在區(qū)域施加瞬時(shí)負(fù)壓,并在探針到達(dá)下一音叉晶片根部前關(guān)閉電磁閥;S6、探針到達(dá)下一音叉晶片根部后,重復(fù)步驟S4、S5,沿S型的測(cè)量路徑對(duì)完成全部音叉晶片的測(cè)量,關(guān)閉負(fù)壓源并取出wafer片;所述定位平臺(tái)上開設(shè)有與wafer片表面貼合的吸附孔,所述負(fù)壓管路分流形成與吸附孔連通的第一負(fù)壓通道以及與負(fù)壓孔連通的第二負(fù)壓通道,所述第二負(fù)壓通道上設(shè)置有電磁閥以控制負(fù)壓孔的啟閉。

如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人合肥晶威特電子有限責(zé)任公司,其通訊地址為:230001 安徽省合肥市蜀山區(qū)經(jīng)濟(jì)技術(shù)開發(fā)區(qū)云谷路2569號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。

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