恭喜昆山丘鈦光電科技有限公司龐文浩獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜昆山丘鈦光電科技有限公司申請的專利一種模組誤差標定方法及裝置獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115326108B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202211031624.0,技術領域涉及:G01C25/00;該發明授權一種模組誤差標定方法及裝置是由龐文浩設計研發完成,并于2022-08-26向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種模組誤差標定方法及裝置在說明書摘要公布了:本發明提供了一種模組誤差標定方法及裝置,方法包括:利用標準模組、多個不同透光率的光學衰減片以及預設的距離誤差閾值確定目標標定距離及目標光學衰減片;基于所述目標標定距離、所述目標光學衰減片對待測模組進行誤差標定,所述待測模組與所述標準模組的型號相同;如此,利用光學衰減片及標準模組確定目標標定距離時,可以削弱模組接收到接收到的光子脈沖強度,進而延遲SPAD被返回的光子脈沖觸發的時刻,從而確定出的目標標定距離會小于傳統的標定距離,這樣可同步縮小待測平面的尺寸,降低標定成本;并且在量產階段對多個模組進行誤差標定時,待測平面尺寸可以調整至滿足產線標定要求,提高標定效率。
本發明授權一種模組誤差標定方法及裝置在權利要求書中公布了:1.一種模組誤差標定方法,其特征在于,所述方法包括:利用標準模組、多個不同透光率的光學衰減片以及預設的距離誤差閾值確定目標標定距離及目標光學衰減片;基于所述目標標定距離、所述目標光學衰減片對待測模組進行誤差標定,所述待測模組與所述標準模組的型號相同;其中,利用標準模組、多個不同透光率的光學衰減片以及預設的距離誤差閾值確定目標標定距離及目標光學衰減片,包括:確定待測平面的中心區域以及參考距離;所述參考距離為需要向所述標準模組的接收端裝載光學衰減片時對應的距離;以所述參考距離為基準,基于預設步長逐步縮小所述標準模組與所述中心區域之間的實際距離;在任一實際距離對應的位置,控制裝載有當前光學衰減片的標準模組向所述待測平面發射光脈沖,獲取所述標準模組與所述中心區域之間的測量距離以及實際距離;基于所述測量距離及所述實際距離確定第一距離誤差;若所述第一距離誤差大于預設的誤差閾值,將所述當前光學衰減片更換為下一光學衰減片,繼續以所述預設步長逐步縮短所述標準模組與所述中心區域之間的實際距離,直至滿足預設的測試條件;所述下一光學衰減片的透光率小于所述當前光學衰減片的透光率;將滿足所述測試條件對應的距離確定為目標標定距離,將滿足所述測試條件對應的光學衰減片確定為目標光學衰減片。
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