恭喜常熟市虞華真空設備科技有限公司戴建新獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜常熟市虞華真空設備科技有限公司申請的專利一種磁控濺射真空鍍膜機獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116288198B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310053611.1,技術領域涉及:C23C14/35;該發明授權一種磁控濺射真空鍍膜機是由戴建新;戴科晨設計研發完成,并于2023-02-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種磁控濺射真空鍍膜機在說明書摘要公布了:本發明公開了一種磁控濺射真空鍍膜機,包括真空室蓋、真空室腔體、工件架組件和磁場裝置,真空室腔體頂部開口,真空室蓋蓋合于真空室腔體的頂部,真空室腔體的底面設有與真空抽氣系統連接的抽氣道,抽氣道內設有靶材旋轉機構,靶材旋轉機構的周側面設有若干靶材安裝位,真空室腔體內位于接口位置設有伸縮擋板,另設有燈絲固定架和工件架電連接點,工件架組件包括頂部屏蔽板和工件架,工件架包括本體和連接耳,連接耳兩端固定連接于本體,連接耳與頂部屏蔽板固定連接并絕緣,頂部屏蔽板由真空室腔體支撐,工件架電連接點與連接耳接觸并電連接,磁場裝置設置在真空室腔體外,其磁場橫穿真空室腔體。本發明結構緊湊,可提高鍍膜效率。
本發明授權一種磁控濺射真空鍍膜機在權利要求書中公布了:1.一種磁控濺射真空鍍膜機,其特征在于,包括真空室蓋、真空室腔體、工件架組件和磁場裝置,所述真空室腔體頂部開口,所述真空室蓋蓋合于所述真空室腔體的頂部,所述真空室腔體的底面設有與真空抽氣系統連接的抽氣道,所述抽氣道內設有靶材旋轉機構,所述靶材旋轉機構的周側面設有若干靶材安裝位,所述靶材旋轉機構轉動時使所述靶材安裝位中的一個對準所述抽氣道與所述底面的接口,所述真空室腔體內位于所述接口位置設有用于開閉所述接口的伸縮擋板,所述真空室腔體內設有燈絲固定架和工件架電連接點,所述燈絲固定架上固定連接有燈絲,所述工件架組件包括頂部屏蔽板和工件架,所述工件架包括本體和連接耳,所述連接耳兩端固定連接于所述本體,所述連接耳與所述頂部屏蔽板固定連接并絕緣,所述頂部屏蔽板由所述真空室腔體支撐使所述工件架的本體置于所述靶材旋轉機構的上方,所述工件架電連接點與所述連接耳接觸并電連接,所述磁場裝置設置在所述真空室腔體外,所述磁場裝置的磁場橫穿所述真空室腔體。
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