恭喜科磊股份有限公司姜辛容獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜科磊股份有限公司申請的專利成像多電子束的方法及系統獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN118302837B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-15發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202380014704.1，技術領域涉及：H01J37/04；該發明授權成像多電子束的方法及系統是由姜辛容;C·西爾斯;蔣友飛;S·K·史瑞揚;J·H·李;M·施泰格瓦爾德;R·尼費尼格設計研發完成，并于2023-05-17向國家知識產權局提交的專利申請。
本成像多電子束的方法及系統在說明書摘要公布了：形成數百個小射束的多電子束系統可聚焦所述小射束，降低庫侖相互作用效應，且改進所述小射束的分辨率。具有靜電及磁偏轉場的維恩過濾器可將二次電子束與初級電子束分離且可同時校正所有所述小射束的像散及源能量分散模糊。
本發明授權成像多電子束的方法及系統在權利要求書中公布了：1.一種用于電子束的系統，其包括：電子束源，其產生電子束，其中所述電子束源包含尖端、抑制電極及提取電極；載物臺，其經配置以將晶片固持在所述電子束的路徑中；物鏡，其在所述電子束的所述路徑中，其中所述物鏡包含：上極片；下極片；物鏡線圈，其安置在所述上極片上；電荷控制板，其安置在所述下極片上；加速電極，其安置在所述上極片與所述下極片之間所述電子束的所述路徑中；及掃描儀，其安置在所述上極片上；維恩過濾器，其在所述物鏡與所述電子束源之間所述電子束的所述路徑中；轉移透鏡，其在所述維恩過濾器與所述電子束源之間所述電子束的所述路徑中，其中所述轉移透鏡包含極片及轉移透鏡線圈；及檢測陣列，其經配置以接收來自所述載物臺上的所述晶片的至少一個二次電子束。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人科磊股份有限公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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