恭喜安徽華鑫微納集成電路有限公司張偉獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜安徽華鑫微納集成電路有限公司申請的專利一種用于硅壓力傳感器TMAH腐蝕槽勻流板及其應用的腐蝕槽獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119352170B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-04發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202411906883.2,技術領域涉及:C30B33/10;該發明授權一種用于硅壓力傳感器TMAH腐蝕槽勻流板及其應用的腐蝕槽是由張偉;姚健;唐秋菊設計研發完成,并于2024-12-24向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種用于硅壓力傳感器TMAH腐蝕槽勻流板及其應用的腐蝕槽在說明書摘要公布了:本發明公開了一種用于硅壓力傳感器TMAH腐蝕槽勻流板及其應用的腐蝕槽,包括板體,所述板體上開有勻流孔,板體安裝在腐蝕槽內,且腐蝕槽的底部有進液孔,進液孔與板體相對,和現有技術不同的是,所述板體的底部安裝有與進液孔相對的輔助勻流盤;所述輔助勻流盤包括安裝件,所述安裝件安裝在所述板體上,所述安裝件上豎向轉動安裝有盤體,所述盤體相對所述安裝件轉動的軸線與所述進液孔的軸線平行,所述盤體具有與所述進液孔相對的部分,所述進液孔排出的液體沖擊盤體并帶動盤體轉動。本發明中,結構簡單,通過輔助勻流盤與進液孔相對避免進液孔中的液體直接對與其相對的勻流孔沖擊進而增大多個勻流孔排出液體的壓強一致性。
本發明授權一種用于硅壓力傳感器TMAH腐蝕槽勻流板及其應用的腐蝕槽在權利要求書中公布了:1.一種用于硅壓力傳感器TMAH腐蝕槽勻流板,包括板體1,所述板體1上開有勻流孔2,板體1安裝在腐蝕槽內,且腐蝕槽的底部有進液孔3,進液孔3與板體1相對,其特征在于,所述板體1的底部安裝有與進液孔3相對的輔助勻流盤4;所述輔助勻流盤4包括安裝件40,所述安裝件40安裝在所述板體1上,所述安裝件40上豎向轉動安裝有盤體41,所述盤體41相對所述安裝件40轉動的軸線與所述進液孔3的軸線平行,所述盤體41具有與所述進液孔3相對的部分,所述進液孔3排出的液體沖擊盤體41并帶動盤體41轉動;所述輔助勻流盤4至少設有兩組,至少兩組所述輔助勻流盤4周向分布在所述進液孔3的軸線外;至少兩組所述輔助勻流盤4的盤體41沿所述進液孔3的軸線方向分布。
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