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龍圖騰網恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于在光刻設備中使用的襯底支架獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111213093B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201880066459.8，技術領域涉及：G03F7/20；該發明授權用于在光刻設備中使用的襯底支架是由N·J·J·羅塞特;M·M·P·A·韋爾默朗;S·K·拉萬斯貝根;M·C·J·巴格;G·克雷默;R·A·M·蒂默曼斯;F·P·A·范德貝克莫爾特設計研發完成，并于2018-09-19向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于在光刻設備中使用的襯底支架在說明書摘要公布了：一種用于在光刻設備中使用并且被配置為支撐襯底的襯底支架，該襯底支架包括：具有主體表面的主體；從主體表面突出的多個主突節，其中每個主突節具有被配置為支撐襯底的遠端表面；從主體表面突出并且具有上表面的第一密封構件，第一密封構件圍繞多個主突節并且被配置為限制液體在襯底和主體表面之間徑向向內經過第一密封構件的通道；以及從第一密封構件的上表面突出的多個小突節，其中每個小突節具有被配置為支撐襯底的遠端表面。

本發明授權用于在光刻設備中使用的襯底支架在權利要求書中公布了：1.一種襯底支架，用于在光刻設備中使用并且被配置為支撐襯底，所述襯底支架包括：主體，具有主體表面；多個第一突節，從所述主體表面突出，每個第一突節具有被配置為支撐所述襯底的遠端表面；第一密封構件，在所述主體的邊緣區域處從所述主體表面突出并且具有被設置為當所述襯底被所述多個第一突節支撐時以第一間隙與所述襯底間隔開的上表面，所述第一密封構件圍繞所述多個第一突節；多個第二突節，被布置在所述第一密封構件的徑向外側，每個第二突節具有被配置為支撐所述襯底的遠端表面；第二密封構件，在所述主體的所述邊緣區域處從所述主體表面突出并且具有被設置為當所述襯底被所述多個第一突節支撐時以第二間隙與所述襯底間隔開的上表面，所述第二密封構件圍繞所述第一密封構件和所述多個第二突節并且被設置在所述襯底之下，并且所述第一間隙被設置為當所述襯底被所述多個第一突節支撐時與所述第二間隙流體連接；以及至少一個抽取開口，用于將流體從所述主體和所述襯底之間抽取到所述主體中，所述至少一個抽取開口被布置在所述第一密封構件和所述第二密封構件之間、或者在所述第二密封構件的所述上表面中。

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