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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于在光刻設(shè)備中使用的襯底支架獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN111213093B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：201880066459.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)用于在光刻設(shè)備中使用的襯底支架是由N·J·J·羅塞特;M·M·P·A·韋爾默朗;S·K·拉萬斯貝根;M·C·J·巴格;G·克雷默;R·A·M·蒂默曼斯;F·P·A·范德貝克莫爾特設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2018-09-19向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于在光刻設(shè)備中使用的襯底支架在說明書摘要公布了：一種用于在光刻設(shè)備中使用并且被配置為支撐襯底的襯底支架，該襯底支架包括：具有主體表面的主體；從主體表面突出的多個(gè)主突節(jié)，其中每個(gè)主突節(jié)具有被配置為支撐襯底的遠(yuǎn)端表面；從主體表面突出并且具有上表面的第一密封構(gòu)件，第一密封構(gòu)件圍繞多個(gè)主突節(jié)并且被配置為限制液體在襯底和主體表面之間徑向向內(nèi)經(jīng)過第一密封構(gòu)件的通道；以及從第一密封構(gòu)件的上表面突出的多個(gè)小突節(jié)，其中每個(gè)小突節(jié)具有被配置為支撐襯底的遠(yuǎn)端表面。

本發(fā)明授權(quán)用于在光刻設(shè)備中使用的襯底支架在權(quán)利要求書中公布了：1.一種襯底支架，用于在光刻設(shè)備中使用并且被配置為支撐襯底，所述襯底支架包括：主體，具有主體表面；多個(gè)第一突節(jié)，從所述主體表面突出，每個(gè)第一突節(jié)具有被配置為支撐所述襯底的遠(yuǎn)端表面；第一密封構(gòu)件，在所述主體的邊緣區(qū)域處從所述主體表面突出并且具有被設(shè)置為當(dāng)所述襯底被所述多個(gè)第一突節(jié)支撐時(shí)以第一間隙與所述襯底間隔開的上表面，所述第一密封構(gòu)件圍繞所述多個(gè)第一突節(jié)；多個(gè)第二突節(jié)，被布置在所述第一密封構(gòu)件的徑向外側(cè)，每個(gè)第二突節(jié)具有被配置為支撐所述襯底的遠(yuǎn)端表面；第二密封構(gòu)件，在所述主體的所述邊緣區(qū)域處從所述主體表面突出并且具有被設(shè)置為當(dāng)所述襯底被所述多個(gè)第一突節(jié)支撐時(shí)以第二間隙與所述襯底間隔開的上表面，所述第二密封構(gòu)件圍繞所述第一密封構(gòu)件和所述多個(gè)第二突節(jié)并且被設(shè)置在所述襯底之下，并且所述第一間隙被設(shè)置為當(dāng)所述襯底被所述多個(gè)第一突節(jié)支撐時(shí)與所述第二間隙流體連接；以及至少一個(gè)抽取開口，用于將流體從所述主體和所述襯底之間抽取到所述主體中，所述至少一個(gè)抽取開口被布置在所述第一密封構(gòu)件和所述第二密封構(gòu)件之間、或者在所述第二密封構(gòu)件的所述上表面中。

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