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龍圖騰網恭喜東京毅力科創(chuàng)株式會社申請的專利基片檢查方法、基片檢查系統(tǒng)和控制裝置獲國家發(fā)明授權專利權，本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112050743B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉：該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為：202010472660.5，技術領域涉及：G01B11/06；該發(fā)明授權基片檢查方法、基片檢查系統(tǒng)和控制裝置是由鶴田豐久;富田浩設計研發(fā)完成，并于2020-05-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本基片檢查方法、基片檢查系統(tǒng)和控制裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供基片檢查方法、基片檢查系統(tǒng)和控制裝置。基片檢查方法包括：基于模型形成用基片的膜的特征量的測量結果，和拍攝模型形成用基片而生成的模型形成用拍攝圖像，來構建表示基片的拍攝圖像中的像素值與該基片的膜的特征量的關系的相關模型的步驟；拍攝特征量獲取對象基片生成拍攝圖像，基于該拍攝圖像和相關模型，來計算特征量獲取對象基片的膜的推算特征量的步驟；計算對多個特征量獲取對象基片計算出的推算特征量的統(tǒng)計值的步驟；以及根據膜的特征量的測量結果和推算特征量的統(tǒng)計值，計算推算特征量的補償量的步驟，其中膜是對補償計算用基片進行與推算特征量被計算出的膜相同的處理的膜。本發(fā)明能夠簡單且準確地獲取基片的膜的特征量。

本發(fā)明授權基片檢查方法、基片檢查系統(tǒng)和控制裝置在權利要求書中公布了：1.一種對基片進行檢查的基片檢查方法，其特征在于，包括：基于用測量器測量形成于模型形成用基片的膜的特征量的測量結果，和用第一基片處理系統(tǒng)的攝像裝置拍攝所述模型形成用基片而生成的模型形成用拍攝圖像，來構建表示基片的拍攝圖像中的像素值與形成于該基片的膜的特征量的關系的相關模型的步驟；用第二基片處理系統(tǒng)的攝像裝置拍攝特征量獲取對象基片生成拍攝圖像，基于該拍攝圖像和所述相關模型，來計算形成于所述特征量獲取對象基片的膜的推算特征量的步驟；計算對多個所述特征量獲取對象基片計算出的所述推算特征量的統(tǒng)計值的步驟；以及根據由測量器測量膜的特征量的測量結果和所述推算特征量的統(tǒng)計值，計算所述推算特征量的補償量的步驟，其中所述膜是用所述第二基片處理系統(tǒng)對補償計算用基片進行與所述推算特征量被計算出的膜的形成處理相同的處理而形成的膜，所述膜的特征量是膜厚或者該膜的線寬。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東京毅力科創(chuàng)株式會社，其通訊地址為：日本東京都；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。