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龍圖騰網恭喜紐富來科技股份有限公司申請的專利帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114787958B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180006999.9，技術領域涉及：H01J37/305；該發明授權帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置是由野村春之;中山田憲昭設計研發完成，并于2021-03-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在說明書摘要公布了：迅速且準確地計算基板的帶電量。帶電粒子束描繪方法包括：將描繪對象的基板的描繪區域假想分割為網格狀，計算表示每個網格區域的上述圖案的配置比例的圖案密度的工序S100；使用上述圖案密度計算每個網格區域的劑量的工序S102；使用將預先求出的上述抗蝕劑膜的膜厚和劑量作為變量的帶電量計算用的函數，根據形成于上述基板的上述抗蝕劑膜的膜厚以及計算出的上述劑量計算帶電量的工序S104；根據計算出的上述帶電量計算描繪位置的位置偏移量的工序S106；以及使用上述位置偏移量校正上述帶電粒子束的照射位置的工序S108。

本發明授權帶電粒子束描繪方法以及帶電粒子束描繪裝置在權利要求書中公布了：1.一種帶電粒子束描繪方法，通過偏轉器使帶電粒子束偏轉，向形成有抗蝕劑膜的基板照射上述帶電粒子束來描繪圖案，具備：將上述基板的描繪區域假想分割為網格狀，計算表示每個網格區域的上述圖案的配置比例的圖案密度的工序；使用上述圖案密度計算每個網格區域的劑量的工序；使用將預先求出的上述抗蝕劑膜的膜厚與劑量作為變量的帶電量計算用的函數，根據形成于上述基板的上述抗蝕劑膜的膜厚以及計算出的上述劑量計算帶電量的工序；根據計算出的上述帶電量計算描繪位置的位置偏移量的工序；以及使用上述位置偏移量校正上述帶電粒子束的照射位置的工序，上述帶電量計算用的函數由表示上述抗蝕劑膜的物理特性的參數決定，物理特性包含抗蝕劑的二次電子發射概率、介電常數、射束照射中的電阻率、功函數以及空穴殘存率的至少任一個，上述帶電量計算用的函數即使在上述抗蝕劑膜的劑量靈敏度不同的情況下也能夠計算帶電量。

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