恭喜萬華化學集團股份有限公司吳謙獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜萬華化學集團股份有限公司申請的專利一種防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂及其制備方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN116239883B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202310000478.3,技術領域涉及:C08L75/04;該發明授權一種防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂及其制備方法是由吳謙;李建峰;尚永華;朱付林;任一臻;李靜;豐茂英;寇夢存;黎源設計研發完成,并于2023-01-03向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂及其制備方法在說明書摘要公布了:本發明提供一種防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂及其制備方法,所述制備方法由高分子助劑(PNASC?PACG)、異氰酸酯、多硫醇化合物、催化劑、紫外吸收劑和脫模劑等混合后通過聚合反應得到所述防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂。所述高分子助劑是由丙烯酰基脲胺(NASC)和丙烯酰基甘氨酸(ACG)經聚合反應得到的共聚物。該高分子助劑的添加能有效改善聚氨酯光學樹脂的親水性和耐熱性,表面水接觸角最低為11°,同時未對光學樹脂的透射比和YI造成產生負面影響。
本發明授權一種防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂及其制備方法在權利要求書中公布了:1.一種防霧耐熱型聚氨酯光學樹脂,其特征在于,該樹脂包含以下組分:異氰酸酯、多元硫醇化合物、催化劑、紫外吸收劑、高分子助劑和脫模劑,其中高分子助劑是丙烯酰基脲胺和丙烯酰基甘氨酸聚合得到的共聚物,丙烯酰基脲胺和丙烯酰基甘氨酸的摩爾比為1:10-10:1;高分子助劑的添加量為0.1wt%-10wt%,按異氰酸酯和多元硫醇化合物總重量計。
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