買專利賣專利找龍圖騰，真高效！ 查專利查商標(biāo)用IPTOP,全免費！專利年費監(jiān)控用IP管家,真方便！

龍圖騰網(wǎng)恭喜合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司申請的專利掩膜板組件及蒸鍍設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN116162896B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202310194805.3，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C23C14/04；該發(fā)明授權(quán)掩膜板組件及蒸鍍設(shè)備是由李如;楊凱;潘晟愷;喬永康;徐陽設(shè)計研發(fā)完成，并于2023-02-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本掩膜板組件及蒸鍍設(shè)備在說明書摘要公布了：本申請實施例提供了一種掩膜板組件及蒸鍍設(shè)備。該掩膜板組件包括：框架；掩膜條，設(shè)置在框架上，并位于框架朝向待蒸鍍基板的一側(cè)，掩膜條具有第一開口，第一開口在待蒸鍍基板上的正投影與待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域重合；掩膜托盤，設(shè)置在框架上，并位于掩膜條朝向蒸鍍源的一側(cè)，掩膜托盤遮擋至少部分掩膜條，掩膜托盤具有第二開口，第二開口在待蒸鍍基板上的正投影覆蓋第一開口在待蒸鍍基板上的正投影；其中：掩膜托盤至少朝向蒸鍍源一側(cè)的表面粗糙度大于掩膜條的表面粗糙度。本申請實施例能夠降低沉積在掩膜板組件上的膜層從掩膜板組件上剝落的風(fēng)險，提高掩膜板組件的使用壽命。

本發(fā)明授權(quán)掩膜板組件及蒸鍍設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種掩膜板組件，其特征在于，包括：框架；掩膜條，設(shè)置在所述框架上，并位于所述框架朝向待蒸鍍基板的一側(cè)，所述掩膜條具有第一開口，所述第一開口在所述待蒸鍍基板上的正投影與所述待蒸鍍基板的待蒸鍍區(qū)域重合；掩膜托盤，設(shè)置在所述框架上，并位于所述掩膜條朝向蒸鍍源的一側(cè)，所述掩膜托盤遮擋至少部分所述掩膜條，所述掩膜托盤具有第二開口，所述第二開口在所述待蒸鍍基板上的正投影覆蓋所述第一開口在所述待蒸鍍基板上的正投影；其中：所述掩膜托盤至少朝向蒸鍍源一側(cè)的表面粗糙度大于所述掩膜條的表面粗糙度；所述掩膜條包括相連接的第一連接部和掩膜部，所述第一連接部與所述框架連接，所述掩膜部限定出所述第一開口，所述第一連接部位于所述掩膜部背離所述第一開口的一側(cè)；所述掩膜托盤包括相連接的第二連接部和遮擋部，所述第二連接部與所述框架連接，所述遮擋部限定出所述第二開口，所述第二連接部位于所述遮擋部背離所述第二開口的一側(cè)；所述遮擋部遮擋至少部分所述掩膜部，所述遮擋部與所述掩膜部之間具有間隙。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人合肥鑫晟光電科技有限公司;京東方科技集團(tuán)股份有限公司，其通訊地址為：230012 安徽省合肥市新站區(qū)工業(yè)園內(nèi)；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。