廣東天域半導體股份有限公司丁雄傑獲國家專利權
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龍圖騰網獲悉廣東天域半導體股份有限公司申請的專利用于雙層結構生長襯底外延生長的樣品托獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116288691B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202310291640.1，技術領域涉及：C30B25/12；該發明授權用于雙層結構生長襯底外延生長的樣品托是由丁雄傑;劉薇;李煥婷;張紅;周澤成;邱樹杰;李浩然;李錫光設計研發完成，并于2023-03-22向國家知識產權局提交的專利申請。
本用于雙層結構生長襯底外延生長的樣品托在說明書摘要公布了：本發明公開了一種用于雙層結構生長襯底外延生長的樣品托，包括托盤本體和掩膜板，托盤本體上開設有設有容納生長襯底的主容置槽和容納參考襯底的副容置槽，掩膜板沿一隨托盤本體的旋轉離心方向設置的滑動軌道滑動安裝于托盤本體上，副容置槽位于沿滑動軌道由后向前排布的第一位置和第二位置，掩膜板沿滑動軌道在滑動后位和滑動前位之間滑動以切換遮蓋第一位置處的副容置槽和第二位置處的副容置槽，掩膜板和滑動軌道之間的接觸表面光滑，以使掩膜板在托盤本體減速時可在慣性作用下從遮蓋第一位置處的副容置槽切換至遮蓋第二位置處的副容置槽。本發明可通過掩膜板的慣性滑動切換遮蓋參考襯底，在雙層外延層生產時獲得每一層外延層生長的單層樣品。
本發明授權用于雙層結構生長襯底外延生長的樣品托在權利要求書中公布了：1.一種用于雙層結構生長襯底外延生長的樣品托，其特征在于：包括托盤本體和掩膜板，所述托盤本體上設有容納生長襯底的主容置槽和容納參考襯底的副容置槽，所述掩膜板沿一滑動軌道滑動安裝于所述托盤本體上，所述滑動軌道沿所述托盤本體旋轉的離心方向設置且設置有限制所述掩膜板由所述滑動軌道的滑動前位向所述滑動軌道的滑動后位滑動的限位部，所述副容置槽位于沿所述滑動軌道由后向前排布的第一位置和第二位置，所述掩膜板沿所述滑動軌道在所述滑動后位和滑動前位之間滑動，以切換遮蓋所述第一位置處的副容置槽和第二位置處的副容置槽，所述掩膜板和所述滑動軌道之間的接觸表面為光滑的滑動面，以使所述掩膜板在所述托盤本體減速時可在慣性作用下在所述滑動軌道上由后向前滑動，且從遮蓋所述第一位置處的副容置槽切換至遮蓋所述第二位置處的副容置槽。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人廣東天域半導體股份有限公司，其通訊地址為：523000 廣東省東莞市松山湖北部工業城工業北一路5號二樓辦公樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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