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龍圖騰網(wǎng)恭喜廣東天域半導(dǎo)體股份有限公司申請(qǐng)的專利用于雙層結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)襯底外延生長(zhǎng)的樣品托獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN116288691B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-04-01發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202310291640.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C30B25/12；該發(fā)明授權(quán)用于雙層結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)襯底外延生長(zhǎng)的樣品托是由丁雄傑;劉薇;李煥婷;張紅;周澤成;邱樹杰;李浩然;李錫光設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2023-03-22向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本用于雙層結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)襯底外延生長(zhǎng)的樣品托在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種用于雙層結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)襯底外延生長(zhǎng)的樣品托，包括托盤本體和掩膜板，托盤本體上開設(shè)有設(shè)有容納生長(zhǎng)襯底的主容置槽和容納參考襯底的副容置槽，掩膜板沿一隨托盤本體的旋轉(zhuǎn)離心方向設(shè)置的滑動(dòng)軌道滑動(dòng)安裝于托盤本體上，副容置槽位于沿滑動(dòng)軌道由后向前排布的第一位置和第二位置，掩膜板沿滑動(dòng)軌道在滑動(dòng)后位和滑動(dòng)前位之間滑動(dòng)以切換遮蓋第一位置處的副容置槽和第二位置處的副容置槽，掩膜板和滑動(dòng)軌道之間的接觸表面光滑，以使掩膜板在托盤本體減速時(shí)可在慣性作用下從遮蓋第一位置處的副容置槽切換至遮蓋第二位置處的副容置槽。本發(fā)明可通過掩膜板的慣性滑動(dòng)切換遮蓋參考襯底，在雙層外延層生產(chǎn)時(shí)獲得每一層外延層生長(zhǎng)的單層樣品。

本發(fā)明授權(quán)用于雙層結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)襯底外延生長(zhǎng)的樣品托在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于雙層結(jié)構(gòu)生長(zhǎng)襯底外延生長(zhǎng)的樣品托，其特征在于：包括托盤本體和掩膜板，所述托盤本體上設(shè)有容納生長(zhǎng)襯底的主容置槽和容納參考襯底的副容置槽，所述掩膜板沿一滑動(dòng)軌道滑動(dòng)安裝于所述托盤本體上，所述滑動(dòng)軌道沿所述托盤本體旋轉(zhuǎn)的離心方向設(shè)置且設(shè)置有限制所述掩膜板由所述滑動(dòng)軌道的滑動(dòng)前位向所述滑動(dòng)軌道的滑動(dòng)后位滑動(dòng)的限位部，所述副容置槽位于沿所述滑動(dòng)軌道由后向前排布的第一位置和第二位置，所述掩膜板沿所述滑動(dòng)軌道在所述滑動(dòng)后位和滑動(dòng)前位之間滑動(dòng)，以切換遮蓋所述第一位置處的副容置槽和第二位置處的副容置槽，所述掩膜板和所述滑動(dòng)軌道之間的接觸表面為光滑的滑動(dòng)面，以使所述掩膜板在所述托盤本體減速時(shí)可在慣性作用下在所述滑動(dòng)軌道上由后向前滑動(dòng)，且從遮蓋所述第一位置處的副容置槽切換至遮蓋所述第二位置處的副容置槽。

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