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龍圖騰網恭喜杭州電子科技大學申請的專利一種基于離散幾何映射的等幾何分析參數化遷移方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN117315078B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202311246373.2，技術領域涉及：G06T11/20；該發明授權一種基于離散幾何映射的等幾何分析參數化遷移方法是由王土震;許金蘭;肖淑欣;徐崗設計研發完成，并于2023-09-26向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種基于離散幾何映射的等幾何分析參數化遷移方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種基于離散幾何映射的等幾何分析參數化遷移方法，該方法首先對給定的特征約束進行分類。其次根據分類結果，若無法直接移動約束所在面片的邊界生成高質量的參數化，則分割約束所在面片為多個子面片，使得約束位于新的子面片的邊界。然后進行徑向基函數插值，將約束點或約束線的端點移動至面片邊界。最后對于特征點或線導致面片出現裂縫的情況，采用優化方法，進行確保約束位置不變的局部參數化質量優化，得到滿足約束的高質量參數化結果。本發明對質量下降嚴重的面片進行優化，得到在滿足特征約束的同時，質量較高的參數化結果，滿足后續分析的應用。

本發明授權一種基于離散幾何映射的等幾何分析參數化遷移方法在權利要求書中公布了：1.一種基于離散幾何映射的等幾何分析參數化遷移方法，其特征在于，包括如下步驟：步驟1對給定的特征約束進行分類；具體過程如下：1-1、對于給定的平面模型，進行基于剖分的參數化；1-2、對于特征點約束，以平面模型上離特征點最近的面片角點為基準，根據特征點相對于基準點的位置，將特征點分為3類；具體為：對于特征點約束，定義平面模型上離特征點ps最近的面片角點為p，p兩側面片邊界曲線C1,C2的弧長分別為dis1,dis2，以p為圓心，mindis12,dis22為半徑的圓為圓Cirp，根據離ps最近的角點p是否在輸入模型的外邊界將其劃分為兩類，如果角點p位于模型的外邊界上，此時移動角點p滿足特征約束，使得模型整體的形狀發生改變，不符合實際工程中仿真分析的要求，將其標為分類1；如果特征點ps位于以p為圓心的圓Cirp內，直接插值移動角點在滿足約束的同時得到參數化結果，據此將角點p位于模型內部的情況，根據ps是否位于以p為圓心的圓Cirp內，細分為兩類，分別為分類2和分類3；1-3、對于特征線約束，以平面模型上離特征線最近的面片角點為基準，根據特征線端點在面片中的位置，將特征線分為7類，具體為：對于特征約束線，其首尾端點為pa,pb，離pa,pb最近的面片角點為p1,p2，p1兩側邊界曲線Ca1,Ca2的弧長分別為disa1,disa2，p2兩側邊界曲線Cb1,Cb2的弧長分別為disb1,disb2，以p1為圓心，以mindisa12,disa22為半徑的圓為圓同理，以p2為圓心，以mindisb12,disb22為半徑的圓為圓如果特征線約束的首尾端點pa,pb的最近角點p1,p2是面片對角線上的點，直接移動模型內部面片邊界滿足特征約束會使得約束周圍面片質量高度下降，將其標為分類1；如果離特征線約束最近的角點p1,p2是面片邊界的兩端點，并且p1,p2都位于輸入模型的外部邊界，與特征點約束類似，直接移動面片邊界會改變模型的外部形狀，將其標為分類2；如果p1,p2是面片邊界的兩端點并且中一個位于模型邊界，一個位于模型的內部，假設p1位于模型邊界，此時，判斷p2對應的約束點pb是否在以p2為圓心的圓內，如其不在圓內，將其標為分類3，否則標為分類4；如果p1,p2是面片邊界的兩端點并且p1,p2都位于模型內部，根據p1,p2是否分別在對應的圓內將該種情況再細分為三類，分別為分類5、分類6和分類7；步驟2根據分類結果，若無法直接移動約束所在面片的邊界生成參數化，則分割約束所在面片為多個子面片，使得約束位于新的子面片的邊界；步驟3進行徑向基函數RBF插值，將約束點或約束線的端點移動至面片邊界；步驟4對于特征點或線導致面片出現裂縫的情況，采用優化方法，進行確保約束位置不變的局部參數化質量優化，得到滿足約束的參數化結果，具體過程如下：4-1、構造保約束的質量優化函數；通過優化以下目標函數提高參數化的質量： 其中，QlPi,j＝∫Ω||su||2+||sv||2dΩ表示參數線長度函數，QuPi,j＝∫Ω||suu||2+2||suv||2+||svv||2dΩ表示參數線的均勻性函數，QoPi,j＝∫Ωsu·sv2dΩ表示正交性函數， 表示偏斜率函數，QaPi,j＝∫Ω|su,sv|2dΩ表示面積函數， 表示偏心率函數；wl,wu,wo,ws,wa,we是非負的權重值，決定相關函數的影響程度；Pi,j是初始參數化內所有加細分裂后的面片形成的區域C內的控制點,s是區域C內的面片，sv表示面片關于v方向的一階偏導數，su表示面片關于u方向的一階偏導數,suu表示面片關于u方向的二階偏導數,suv表示面片關于u和v方向的混合偏導數，svv表示面片關于v方向的二階偏導數；4-2、擬合平面模型邊界，并通過插值移動得到優化結果；在優化之后用C的邊界曲線基函數優化之前該部分的曲線，并通過插值移動得到優化結果。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人杭州電子科技大學，其通訊地址為：310018 浙江省杭州市錢塘區白楊街道2號大街1158號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。