恭喜愛博睿美(成都)醫療科技有限公司周倩獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜愛博睿美(成都)醫療科技有限公司申請的專利一種具有抗菌性能的口腔修復膜及制備方法及其應用獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN117959502B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-04-01發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202410136596.1,技術領域涉及:A61L31/12;該發明授權一種具有抗菌性能的口腔修復膜及制備方法及其應用是由周倩;董麗;張肖;劉真悅;李鵬貴設計研發完成,并于2024-01-31向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種具有抗菌性能的口腔修復膜及制備方法及其應用在說明書摘要公布了:本發明提供了一種具有抗菌性能的口腔修復膜及制備方法及其應用,屬于醫用生物材料領域。本發明制備的具有抗菌性能的口腔修復膜,其包括抗菌納米薄膜層、第一脫細胞基質層和第二脫細胞基質層;所述第一脫細胞基質層和第二脫細胞基質層具有疏松面和致密面;所述納米薄膜層位于第一脫細胞基質層的致密面;所述第一脫細胞基質層的疏松面位于第二脫細胞基質層的致密面。本發明制備具有抗菌性能的口腔修復膜的工藝簡單、快速,制備得到的口腔修復膜使用方便,具有良好的組織貼附性、親水性、低免疫原性及降解性能。使用時膜片第二脫細胞基質層面朝向缺損組織,隨著膜片降解實現修復。該口腔修復膜在口腔醫學領域中具有廣泛的應用前景。
本發明授權一種具有抗菌性能的口腔修復膜及制備方法及其應用在權利要求書中公布了:1.一種具有抗菌性能的口腔修復膜在制備口腔醫學領域醫療器械中的應用,其特征在于:所述具有抗菌性能的口腔修復膜包括抗菌納米薄膜層、第一脫細胞基質層和第二脫細胞基質層;所述第一脫細胞基質層和第二脫細胞基質層具有疏松面和致密面;所述疏松面的孔隙率為35%~90%,孔徑35μm;致密面孔隙率為5%~25%,孔徑<10μm;所述納米薄膜層位于第一脫細胞基質層的致密面;所述第一脫細胞基質層的疏松面位于第二脫細胞基質層的致密面;所述第一脫細胞基質層和第二脫細胞基質層是由動物組織制備得到;所述動物組織為豬小腸、豬心包、豬皮、牛皮或牛心包;所述納米薄膜層為將納米薄膜反應液涂覆于第一脫細胞基質的致密面形成的薄膜,涂覆量為50~200μLcm2;所述納米薄膜反應液的制備方法為:使用10mMTris-HCl和pH=12~13的NaOH溶液將溶菌酶和三2-羧乙基膦鹽酸鹽溶解,配置得到pH=7.0~7.4的溶菌酶及三2-羧乙基膦溶液;隨后混合并攪拌2~5min混勻得到所述納米薄膜反應液,其中溶菌酶及三2-羧乙基膦的含量比為(0.5~2)gL:20molL;所述第一脫細胞基質層包括1~3層脫細胞基質,每一層脫細胞基質均為疏松面朝下,致密面朝上,每一層脫細胞基質交錯疊加;所述第一脫細胞基質層的長度為20~60mm,寬度為20~60mm、厚度為0.1~0.4mm,每一層脫細胞基質交錯疊加;第一脫細胞基質層與第二脫細胞基質層接觸面交錯疊加;所述第二脫細胞基質層包括2~5層脫細胞基質,每一層脫細胞基質均為疏松面朝下,致密面朝上;所述第二脫細胞基質層較第一脫細胞基質層短3~8mm、窄3~8mm,厚0.1~0.8mm;所述第二脫細胞基質層位于第一脫細胞基質層中央;所述第二脫細胞基質和第一脫細胞基質均為疏松面朝下,致密面朝上。
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