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龍圖騰網(wǎng)恭喜江蘇凱威特斯半導(dǎo)體科技有限公司申請的專利一種針對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積噴淋頭的清洗方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN118874932B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-25發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202411187198.9，技術(shù)領(lǐng)域涉及：B08B3/08；該發(fā)明授權(quán)一種針對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積噴淋頭的清洗方法是由薛弘宇;朱文健;徐國俊;李偉東;丁瑞華;陳開清;張牧;陸圣波;嚴汪學(xué);桂傳書設(shè)計研發(fā)完成，并于2024-08-28向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本一種針對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積噴淋頭的清洗方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明公開了一種針對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積噴淋頭的清洗方法，包括將噴淋頭放置于含有甲縮醛、雙氧水、丙酮清洗液中浸泡、氧氣等離子清洗、氮氣等離子清洗、超微納米氣泡工藝清洗、純水超聲處理等步驟。本發(fā)明采用化學(xué)等離子結(jié)合超微納米氣泡工藝的方式，對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積設(shè)備進行清洗。這種方法能夠?qū)Ξa(chǎn)品表面和孔洞內(nèi)部進行深層次清洗，有效去除表面和孔洞的污染物，提高清洗效果和產(chǎn)品質(zhì)量；本發(fā)明方法不僅能夠?qū)Ξa(chǎn)品表面和孔洞內(nèi)部進行深層次清洗，同時，因為不涉及酸堿化學(xué)品，因此對母材的損傷較小，這一優(yōu)勢將大大提高半導(dǎo)體制造設(shè)備的清洗效率和質(zhì)量，從而提高半導(dǎo)體產(chǎn)品的整體性能和使用壽命。

本發(fā)明授權(quán)一種針對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積噴淋頭的清洗方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種針對半導(dǎo)體化學(xué)氣相沉積噴淋頭的清洗方法，其特征在于，包括以下步驟：1將噴淋頭放置于清洗液中浸泡，以去除表面的有機物，所述清洗液由甲縮醛、雙氧水、丙酮組成，按體積百分比計算，所述清洗液包括甲縮醛50～85％，雙氧水5～20％，丙酮5～40％；2取出噴淋頭，對其進行等離子清洗，以去除大部分硅聚物，碳氟聚合物和其他污染物，所述等離子清洗包括氧氣等離子清洗和氮氣等離子清洗兩個步驟；3使用超微納米氣泡工藝清洗殘留的污染物；4對步驟3得到的噴淋頭進行純水超聲處理，吹干；5將步驟4得到的噴淋頭烘干并冷卻。

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