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龍圖騰網恭喜廣東潤宇傳感器股份有限公司申請的專利異型腔體制備方法和傳感器制備方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN119018846B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-25發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202411400810.6，技術領域涉及：B81C1/00；該發明授權異型腔體制備方法和傳感器制備方法是由李樹成;李海全;方澤川設計研發完成，并于2024-10-09向國家知識產權局提交的專利申請。

本異型腔體制備方法和傳感器制備方法在說明書摘要公布了：本申請屬于微機械加工技術領域，具體涉及一種異型腔體制備方法和傳感器制備方法；該制備方法包括根據異型腔體的設計圖，在所述襯底上的島狀結構區或膜片區形成圖形化的硬掩膜層，得到預刻蝕結構；其中所述異型腔體包括至少兩種高度的島狀結構或至少兩種厚度的膜片，不同高度的島狀結構對應不同厚度的硬掩膜或不同厚度的膜片對應不同厚度的硬掩膜；對所述預刻蝕結構進行刻蝕，以形成所述異型腔體。該方案只需對襯底進行一次刻蝕，即可在深腔底部制備出不同高度的島狀結構或者具有不同厚度的膜片，從而簡化了異型腔體制作工藝，提高了產品的生產良率。

本發明授權異型腔體制備方法和傳感器制備方法在權利要求書中公布了：1.一種異型腔體制備方法，其特征在于，所述異型腔體包括至少兩種厚度的膜片，所述膜片包括空腔底部與襯底底部之間的介質，所述制備方法包括：提供一襯底；根據所述異型腔體的設計圖中每個膜片的厚度，獲取每個膜片與厚度最薄的膜片之間的厚度差；根據硬掩膜與襯底的刻蝕速率比，確定出每個厚度差對應的硬掩膜厚度；根據所述每個厚度差對應的硬掩膜厚度，在所述襯底的膜片區形成圖形化的硬掩膜層，得到預刻蝕結構；其中不同厚度的膜片對應不同厚度的硬掩膜；在所述預刻蝕結構的上表面涂覆光刻膠，經過曝光和顯影后在所述襯底的非膜片區形成光刻膠保護層；對所述硬掩膜層和襯底進行刻蝕，達到預設刻蝕深度后去掉所述光刻膠保護層，得到所述異型腔體；其中，所述預設刻蝕深度為最薄膜片對應的刻蝕深度。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人廣東潤宇傳感器股份有限公司，其通訊地址為：529100 廣東省江門市新會區會城會通路18號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。