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龍圖騰網(wǎng)恭喜大塚電子株式會(huì)社申請(qǐng)的專利光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法、光學(xué)測(cè)定方法以及光學(xué)測(cè)定裝置獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN112798105B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202011271709.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G01J3/28；該發(fā)明授權(quán)光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法、光學(xué)測(cè)定方法以及光學(xué)測(cè)定裝置是由中島一八;野口宗裕設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-11-13向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法、光學(xué)測(cè)定方法以及光學(xué)測(cè)定裝置在說明書摘要公布了：本發(fā)明提供光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法、光學(xué)測(cè)定方法以及光學(xué)測(cè)定裝置，高精度地進(jìn)行使用了CMOS線性圖像傳感器的光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正。具備CMOS線性圖像傳感器的光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法包括：曝光步驟，使曝光時(shí)間變化而使強(qiáng)度恒定的基準(zhǔn)光依次入射CMOS線性圖像傳感器的注目受光元件；測(cè)定值獲取步驟，依次獲取所述注目受光元件的測(cè)定值；實(shí)際線性誤差計(jì)算步驟，依次計(jì)算表示基于與所述測(cè)定值對(duì)應(yīng)的所述曝光時(shí)間得到的線性值與該測(cè)定值之差的實(shí)際線性誤差；以及擬合步驟，對(duì)所述各實(shí)際線性誤差執(zhí)行表示第一線性誤差的第一函數(shù)的擬合。

本發(fā)明授權(quán)光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法、光學(xué)測(cè)定方法以及光學(xué)測(cè)定裝置在權(quán)利要求書中公布了：1.一種線性校正方法，是具備CMOS線性圖像傳感器的光學(xué)測(cè)定裝置的線性校正方法，其特征在于，所述線性校正方法包括：曝光步驟，使曝光時(shí)間變化而使強(qiáng)度恒定的基準(zhǔn)光依次入射所述CMOS線性圖像傳感器的注目受光元件；測(cè)定值獲取步驟，依次獲取所述注目受光元件的測(cè)定值；實(shí)際線性誤差計(jì)算步驟，依次計(jì)算表示基于與所述測(cè)定值對(duì)應(yīng)的所述曝光時(shí)間得到的線性值與該測(cè)定值之差的實(shí)際線性誤差；以及擬合步驟，對(duì)所述各實(shí)際線性誤差執(zhí)行表示第一線性誤差的第一函數(shù)的擬合，所述擬合步驟通過使用了表示所述各實(shí)際線性誤差與所述第一線性誤差之差的總量的目標(biāo)函數(shù)的最小二乘法，決定所述第一函數(shù)的可變參數(shù)，所述目標(biāo)函數(shù)包括表示所述第一線性誤差與所述各測(cè)定值所對(duì)應(yīng)的所述實(shí)際線性誤差之差的項(xiàng)，這些項(xiàng)通過表示所述各測(cè)定值的偏差的偏差量進(jìn)行加權(quán)。

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