恭喜大塚電子株式會社中島一八獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜大塚電子株式會社申請的專利光學測定裝置的線性校正方法、光學測定方法以及光學測定裝置獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN112798105B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202011271709.7，技術領域涉及：G01J3/28；該發明授權光學測定裝置的線性校正方法、光學測定方法以及光學測定裝置是由中島一八;野口宗裕設計研發完成，并于2020-11-13向國家知識產權局提交的專利申請。
本光學測定裝置的線性校正方法、光學測定方法以及光學測定裝置在說明書摘要公布了：本發明提供光學測定裝置的線性校正方法、光學測定方法以及光學測定裝置，高精度地進行使用了CMOS線性圖像傳感器的光學測定裝置的線性校正。具備CMOS線性圖像傳感器的光學測定裝置的線性校正方法包括：曝光步驟，使曝光時間變化而使強度恒定的基準光依次入射CMOS線性圖像傳感器的注目受光元件；測定值獲取步驟，依次獲取所述注目受光元件的測定值；實際線性誤差計算步驟，依次計算表示基于與所述測定值對應的所述曝光時間得到的線性值與該測定值之差的實際線性誤差；以及擬合步驟，對所述各實際線性誤差執行表示第一線性誤差的第一函數的擬合。
本發明授權光學測定裝置的線性校正方法、光學測定方法以及光學測定裝置在權利要求書中公布了：1.一種線性校正方法，是具備CMOS線性圖像傳感器的光學測定裝置的線性校正方法，其特征在于，所述線性校正方法包括：曝光步驟，使曝光時間變化而使強度恒定的基準光依次入射所述CMOS線性圖像傳感器的注目受光元件；測定值獲取步驟，依次獲取所述注目受光元件的測定值；實際線性誤差計算步驟，依次計算表示基于與所述測定值對應的所述曝光時間得到的線性值與該測定值之差的實際線性誤差；以及擬合步驟，對所述各實際線性誤差執行表示第一線性誤差的第一函數的擬合，所述擬合步驟通過使用了表示所述各實際線性誤差與所述第一線性誤差之差的總量的目標函數的最小二乘法，決定所述第一函數的可變參數，所述目標函數包括表示所述第一線性誤差與所述各測定值所對應的所述實際線性誤差之差的項，這些項通過表示所述各測定值的偏差的偏差量進行加權。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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