恭喜大公數控(北京)科技有限公司韓慶元獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜大公數控(北京)科技有限公司申請的專利基礎平臺裝置獲國家發(fā)明授權專利權,本發(fā)明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114505692B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發(fā)布的發(fā)明授權授權公告中獲悉:該發(fā)明授權的專利申請?zhí)?專利號為:202011276194.X,技術領域涉及:B23Q1/01;該發(fā)明授權基礎平臺裝置是由韓慶元;齊波;劉思遠;潘恩彩;陳小明設計研發(fā)完成,并于2020-11-16向國家知識產權局提交的專利申請。
本基礎平臺裝置在說明書摘要公布了:本發(fā)明公開了一種基礎平臺裝置,包括基座裝置和工作平臺,基座裝置包括:基座本體;升降機構,其包括承托板部以及用于驅動承托板部升降的驅動機構,承托板部借由驅動機構驅動而升至基座本體的上端面以上以及降至基座本體的上端面以下;其中:工作平臺與承托板部之間形成有相配合的導向機構,當承托板部升至基座本體的上端面以上時,工作平臺借由導向機構滑上承托板部;基座本體與工作平臺之間形成有相配合的定位機構,當承托板部降至基座本體的上端面以下而使得工作平臺落于基座本體的上端面時,基座本體借由定位機構對工作平臺定位。
本發(fā)明授權基礎平臺裝置在權利要求書中公布了:1.一種基礎平臺裝置,包括基座裝置和工作平臺,其特征在于,所述基座裝置包括:基座本體;升降機構,其包括承托板部以及用于驅動所述承托板部升降的驅動機構,所述承托板部借由所述驅動機構驅動而升至所述基座本體的上端面以上以及降至所述基座本體的上端面以下;其中:所述工作平臺與所述承托板部之間形成有相配合的導向機構,當所述承托板部升至所述基座本體的上端面以上時,所述工作平臺借由所述導向機構滑上所述承托板部;所述基座本體與所述工作平臺之間形成有相配合的定位機構,當所述承托板部降至所述基座本體的上端面以下而使得所述工作平臺落于所述基座本體的上端面時,所述基座本體借由所述定位機構對所述工作平臺定位;所述導向機構包括:導向槽,其包括兩個,兩個所述導向槽平行且槽口相對的形成于所述工作平臺的底部;導向板條,其包括兩個,兩個導向板條平行設置于所述承托板部的兩個側邊處,且與兩個所述導向槽對應;每個所述導向板條上均開設有依次間隔排布的多個安裝槽;導向塊,每個所述導向板條的安裝槽中均安裝有所述導向塊;所述導向塊用于滑上所述導向槽;所述基座本體包括兩個,其中:所述定位機構包括:定位銷,其包括分別設置于兩個所述基座本體上的圓柱銷以及棱柱銷;定位孔,其包括兩個,兩個所述定位孔形成于所述工作平臺的底部,兩個所述定位孔分別供兩個所述定位銷插入。
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