恭喜蘇州新維度微納科技有限公司羅剛獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜蘇州新維度微納科技有限公司申請的專利納米壓印模板及其制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114265282B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111592119.9，技術領域涉及：G03F7/00；該發明授權納米壓印模板及其制造方法是由羅剛設計研發完成，并于2021-12-23向國家知識產權局提交的專利申請。
本納米壓印模板及其制造方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種納米壓印模板及其制造方法。所述納米壓印模板包括基板和形成在基板上的單元結構。所述基板包括：基底1、第一微結構陣列層2、第一鍵合層4、第一柔性層11和基礎層13。第一微結構陣列層包括多個第一微結構，該多個第一微結構之間通過第一空腔3間隔開。第一鍵合層4設置在該第一微結構陣列層2的上方且與所述第一微結構陣列層2的上表面低溫鍵合在一起。第一插入層5設置于所述第一鍵合層上。第一柔性層11設置在所述第一插入層上方?；A層13設置在所述第一柔性層11上方。本發明的納米壓印模板可以有效地降低模板制造過程和使用過程中產生的應力問題。
本發明授權納米壓印模板及其制造方法在權利要求書中公布了：1.一種納米壓印模板，包括基板和形成在基板上的單元結構，其特征在于，所述基板包括：基底1；第一微結構陣列層2，形成于所述基底上，該第一微結構陣列層包括多個第一微結構，該多個第一微結構之間通過第一空腔3間隔開；第一鍵合層4，設置在該第一微結構陣列層2的上方且與所述第一微結構陣列層2的上表面低溫鍵合在一起；第一插入層5，設置于所述第一鍵合層4上；第一柔性層11，設置在所述第一插入層上方；以及基礎層13，設置在所述第一柔性層11上方，所述基礎層的上表面用于形成所述單元結構。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人蘇州新維度微納科技有限公司，其通訊地址為：215000 江蘇省蘇州市工業園區金雞湖大道99號蘇州納米城20幢430室；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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