恭喜明士(北京)新材料開發有限公司馮云云獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜明士(北京)新材料開發有限公司申請的專利一種提高正型光刻膠厚膜分辨率的光刻方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114859676B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-03-21發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210641171.7，技術領域涉及：G03F7/32；該發明授權一種提高正型光刻膠厚膜分辨率的光刻方法是由馮云云;賈斌;豆秀麗;常唯淑;王偉;馮培龍;王奇;李濤設計研發完成，并于2022-06-08向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種提高正型光刻膠厚膜分辨率的光刻方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種提高正型光刻膠厚膜分辨率的光刻方法，屬于光刻膠曝光顯影工藝技術領域。該工藝立足于提高厚膜＞20μm光刻膠的分辨率，通過在曝光顯影過程中，添加阻溶劑，抑制未曝光區的溶解，進而增強曝光區和未曝光區的溶解對比度，再結合多次曝光多次顯影的工藝過程。該方法可以降低曝光時間，減少膜厚損失，提高留膜率及圖案分辨率。
本發明授權一種提高正型光刻膠厚膜分辨率的光刻方法在權利要求書中公布了：1.一種提高正型光刻膠厚膜分辨率的光刻方法，其特征在于：所述光刻方法，包括如下步驟：1）勻膠：在晶圓上涂覆正型光刻膠液，勻膠，前烘，得到正型光刻膠厚膜；所得厚膜的厚度在20μm以上；2）曝光：采用1n膜厚的曝光工藝進行曝光，其中n代表重復曝光次數；3）顯影：采用1n膜厚的顯影工藝進行顯影，得到第一次曝光顯影后的光刻圖形，其中n代表重復曝光次數；4）噴阻溶劑：在合適的轉速下，在晶圓表面噴灑一層阻溶劑，烘烤；5）在該晶圓上繼續重復上述曝光、顯影、噴阻溶劑步驟，直至得到最后的光刻圖案，最后一次曝光顯影不需要噴阻溶劑；所述阻溶劑通過將重氮萘醌磺酸酯類化合物溶解于有機溶劑中制得。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人明士(北京)新材料開發有限公司，其通訊地址為：101399 北京市順義區民泰路13號院4號樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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