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龍圖騰網(wǎng)獲悉富士膠片株式會(huì)社申請(qǐng)的專利感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、抗蝕劑膜獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN115997167B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-07-04發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202180041834.5，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/004；該發(fā)明授權(quán)感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、抗蝕劑膜是由小島雅史;高田曉;后藤研由;川端健志;牛山愛菜設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2021-05-19向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、抗蝕劑膜在說明書摘要公布了：本發(fā)明的第1課題在于提供一種可獲得良好的形狀的圖案的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物。并且，本發(fā)明的第2課題在于提供一種與上述感光化射線性或感放射線性樹脂組合物相關(guān)的抗蝕劑膜、圖案形成方法及電子器件的制造方法。并且，本發(fā)明的第3課題在于提供一種能夠適合用于上述感光化射線性或感放射線性樹脂組合物的化合物。本發(fā)明的感光化射線性或感放射線性樹脂組合物包含通過光化射線或放射線的照射而產(chǎn)生酸的化合物、重均分子量為30,000以下的酸分解性樹脂及溶劑，上述通過光化射線或放射線的照射而產(chǎn)生酸的化合物包含化合物I。

本發(fā)明授權(quán)感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、抗蝕劑膜在權(quán)利要求書中公布了：1.一種感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其包含通過光化射線或放射線的照射而產(chǎn)生酸的化合物以及重均分子量為30000以下的通過酸的作用進(jìn)行分解而極性增大的樹脂， 所述通過光化射線或放射線的照射而產(chǎn)生酸的化合物包含下述化合物I， 化合物I：具有2個(gè)以上的下述結(jié)構(gòu)部位X及1個(gè)下述結(jié)構(gòu)部位Y，并且通過光化射線或放射線的照射而產(chǎn)生包含2個(gè)以上的來源于所述結(jié)構(gòu)部位X的第1酸性部位及來源于所述結(jié)構(gòu)部位Y的第2酸性部位的酸， 結(jié)構(gòu)部位X：由陰離子部位A1 -及陽離子部位C1 +組成，并且通過光化射線或放射線的照射而形成由HA1表示的第1酸性部位， 結(jié)構(gòu)部位Y：由陰離子部位B1 -及陽離子部位C2 +組成，并且通過光化射線或放射線的照射而形成由HB1表示的第2酸性部位， 其中，化合物I滿足下述條件I， 條件I：在所述化合物I中，用H+取代所述結(jié)構(gòu)部位X中的所述陽離子部位C1 +及所述結(jié)構(gòu)部位Y中的所述陽離子部位C2 +而成的化合物PI具有：酸解離常數(shù)a，來源于用H+取代所述結(jié)構(gòu)部位X中的所述陽離子部位C1 +而成且由HA1表示的酸性部位；以及酸解離常數(shù)b，來源于用H+取代所述結(jié)構(gòu)部位Y中的所述陽離子部位C2 +而成且由HB1表示的酸性部位，并且，所述酸解離常數(shù)b大于所述酸解離常數(shù)a，當(dāng)所述化合物PI具有多個(gè)來源于用H+取代所述結(jié)構(gòu)部位X中的所述陽離子部位C1 +而成的由HA1表示的酸性部位的酸解離常數(shù)時(shí)，所述酸解離常數(shù)b的值大于多個(gè)酸解離常數(shù)a中最大的值。

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