恭喜東海炭素株式會(huì)社牛島裕次獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜東海炭素株式會(huì)社申請(qǐng)的專利一種多晶SiC成型體及其制造方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN114514342B 。
龍圖騰網(wǎng)通過國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202080067816.X,技術(shù)領(lǐng)域涉及:C23C16/32;該發(fā)明授權(quán)一種多晶SiC成型體及其制造方法是由牛島裕次;杉原孝臣;奧山圣一設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2020-09-25向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種多晶SiC成型體及其制造方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明提供一種多晶SiC成型體,其電阻率為0.050Ωcm以下,在X射線衍射圖中衍射角2θ為33°~34°范圍內(nèi)的衍射峰強(qiáng)度為“A”,在X射線衍射圖中SiC111面的衍射峰強(qiáng)度為“B”,比率AB為0.018以下。
本發(fā)明授權(quán)一種多晶SiC成型體及其制造方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種多晶SiC成型體,其中, 所述多晶SiC成型體利用四點(diǎn)探針法測(cè)定的電阻率為0.050Ωcm以下, 在X射線衍射圖中,衍射角2θ為33°~34°范圍內(nèi)的多晶SiC的層疊缺陷的衍射峰強(qiáng)度為“A”,在X射線衍射圖中,衍射角2θ為35°~36°范圍內(nèi)的SiC111面的衍射峰強(qiáng)度為“B”,比率AB為0.018以下, 其中,比率AB通過如下方式計(jì)算得到:在得到的X射線衍射圖中,將衍射角2θ為32.2°~33.2°范圍的衍射峰強(qiáng)度的平均值作為背景的修正值,通過從將衍射角2θ為33°~34°范圍的衍射峰強(qiáng)度設(shè)為修正前的峰強(qiáng)度“A”,以及將衍射角2θ為35°~36°范圍的衍射峰強(qiáng)度設(shè)為修正前的峰強(qiáng)度“B”,減去各個(gè)背景的修正值,求出峰“A”和峰“B”,并計(jì)算得到峰強(qiáng)度比率AB, 其中,所述多晶SiC成型體通過將多晶SiC膜從石墨基板分離并加工得到,并且 所述多晶SiC成型體具有300μm至1000μm的厚度和按質(zhì)量百萬(wàn)分比計(jì)200ppm~1000ppm的氮含量。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人東海炭素株式會(huì)社,其通訊地址為:日本東京都;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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