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龍圖騰網(wǎng)恭喜華芯程(杭州)科技有限公司申請的專利SRAF放置方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN120012708B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-20發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510504363.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/398；該發(fā)明授權(quán)SRAF放置方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設(shè)備是由請求不公布姓名設(shè)計研發(fā)完成，并于2025-04-22向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本SRAF放置方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設(shè)備在說明書摘要公布了：本申請公開了一種SRAF放置方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設(shè)備，其中，該SRAF放置方法包括獲取通孔層中目標圖形的圖形特征和環(huán)境特征；根據(jù)圖形特征和環(huán)境特征生成交叉特征；根據(jù)圖形特征、環(huán)境特征和交叉特征構(gòu)建多維信息矩陣；將多維信息矩陣輸入至SRAF參數(shù)預(yù)測模型，得到SRAF放置參數(shù)；根據(jù)SRAF放置參數(shù)對SRAF進行放置。本方案可以提升SRAF放置的精度。

本發(fā)明授權(quán)SRAF放置方法、裝置、存儲介質(zhì)及電子設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種SRAF放置方法，其特征在于，包括：獲取通孔層中目標圖形的圖形特征和環(huán)境特征，所述圖形特征包括臨界尺寸、第一圖形間距、第二圖形間距和邊緣偏移量，所述環(huán)境特征包括鄰邊間距和局部密度；根據(jù)所述圖形特征和所述環(huán)境特征生成交叉特征，包括：將所述臨界尺寸與所述邊緣偏移量相乘，得到第一交叉特征；將所述第一圖形間距與所述鄰邊間距相除，得到第二交叉特征；將所述第二圖形間距與所述局部密度相乘，得到第三交叉特征；根據(jù)所述圖形特征、所述環(huán)境特征和所述交叉特征構(gòu)建多維信息矩陣；將所述多維信息矩陣輸入至SRAF參數(shù)預(yù)測模型，得到SRAF放置參數(shù)；根據(jù)所述SRAF放置參數(shù)對SRAF進行放置。

如需購買、轉(zhuǎn)讓、實施、許可或投資類似專利技術(shù)，可聯(lián)系本專利的申請人或?qū)＠麢?quán)人華芯程(杭州)科技有限公司，其通訊地址為：310000 浙江省杭州市余杭區(qū)良渚街道網(wǎng)周路99號1幢22層2208室；或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服，聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。