恭喜應用材料公司閔笑全獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜應用材料公司申請的專利在器件制造中形成金屬硬掩模的系統和方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN111919284B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-13發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980021152.0，技術領域涉及：H01L21/033；該發明授權在器件制造中形成金屬硬掩模的系統和方法是由閔笑全;P·K·庫爾施拉希薩;K·D·李;V·K·普拉巴卡爾設計研發完成，并于2019-03-01向國家知識產權局提交的專利申請。
本在器件制造中形成金屬硬掩模的系統和方法在說明書摘要公布了：本文公開了一種用于基板制造的方法和系統。所述方法包括在處置基板之前在腔室中執行第一等離子體增強表面處理，然后，隨后，在所述工藝腔室中沉積陳化材料。在所述工藝腔室中沉積多種陳化材料之后，將基板設置在所述腔室中。將所述基板在所述工藝腔室中定位成與所述陳化材料接觸。執行基板處理。所述基板處理可包括以下項中的一者或多者：執行第二等離子體增強表面處理、在所述基板上形成阻擋層、或在所述基板上形成金屬基硬掩模膜之前執行低頻RF處理。所述金屬基硬掩模膜包括一種或多種金屬。
本發明授權在器件制造中形成金屬硬掩模的系統和方法在權利要求書中公布了：1.一種形成硬掩模的方法，包括： 在工藝腔室中執行第一等離子體增強表面處理； 在執行所述第一等離子體增強表面處理之后，將陳化材料沉積在所述工藝腔室的多個暴露表面上； 在將所述陳化材料沉積在所述工藝腔室的所述多個暴露表面上之后，將基板定位在所述工藝腔室中并與所述陳化材料接觸； 對所述基板執行處理以在所述基板上形成阻擋層，所述處理包括： 執行第二等離子體增強表面處理，其中所述第二等離子體增強表面處理是氫和氮等離子體增強表面處理； 在執行所述第二等離子體增強表面處理之后，使前驅物吸附在所述基板的表面上； 在使所述前驅物吸附之后，執行第三等離子體增強表面處理，所述第三等離子體增強表面處理是等離子體增強氫和氮表面處理；以及 執行低頻RF處理；以及 在對所述基板執行所述處理之后，在所述基板上形成金屬硬掩模膜。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人應用材料公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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