恭喜昆明理工大學(xué);上海航天精密機(jī)械研究所馮晶獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜昆明理工大學(xué);上海航天精密機(jī)械研究所申請(qǐng)的專利一種碳化硅復(fù)合材料表面高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層及其制備方法獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN117567180B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-13發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:202311539927.8,技術(shù)領(lǐng)域涉及:C04B41/90;該發(fā)明授權(quán)一種碳化硅復(fù)合材料表面高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層及其制備方法是由馮晶;顏士肖;劉馳;孫曉亮;陳琳;王建坤;張陸洋;田將;李柏輝設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2023-11-19向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本一種碳化硅復(fù)合材料表面高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層及其制備方法在說(shuō)明書摘要公布了:本發(fā)明公開(kāi)了一種碳化硅復(fù)合材料表面高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層及其制備方法,該環(huán)境障涂層自下而上依次由鉭金屬粘結(jié)層、氧化鉭阻氧層、氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層及鉭酸鹽環(huán)境障涂層組成;所述陶瓷環(huán)境障涂層與碳化硅復(fù)合材料基底的結(jié)合強(qiáng)度大于30MPa,氣孔率小于5%。其制備方法是通過(guò)大氣等離子噴涂在碳化硅復(fù)合材料表面噴涂鉭金屬粘結(jié)層,再將其在200℃保溫1h后在其表面獲得厚度小于1微米厚的氧化鉭阻擋層;再依次通過(guò)大氣等離子噴涂氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層及鉭酸鹽環(huán)境障涂層。本發(fā)明制備的碳化硅復(fù)合材料表面環(huán)境障涂層具有強(qiáng)阻氧和高結(jié)合強(qiáng)度的特性,能夠一定程度上解決當(dāng)前碳化硅涂層材料存在的結(jié)合強(qiáng)度低和易氧化失效的問(wèn)題。
本發(fā)明授權(quán)一種碳化硅復(fù)合材料表面高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層及其制備方法在權(quán)利要求書中公布了:1.一種碳化硅復(fù)合材料表面高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層,其特征在于,從碳化硅復(fù)合材料基底表面自下而上依次由金屬鉭粘結(jié)層(2)、氧化鉭阻氧層(3)、氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層(4)及鉭酸鹽環(huán)境障涂層(5)組成;制備方法按以下步驟實(shí)現(xiàn): 1)在碳化硅復(fù)合材料基底表面通過(guò)大氣等離子噴涂金屬鉭粘結(jié)層(2);大氣等離子噴涂的工藝參數(shù)為:噴槍功率為32~40kW,噴槍距離為130~260mm,氬氣和氫氣的氣流量分別為3512和3513slpm,進(jìn)料速度為36~50gmin,噴槍速度為100~300mms,噴涂時(shí)間為1~3min;制備金屬鉭粘結(jié)層(2)的材料為鉭,涂層厚度為150~200μm,氣孔率小于2%; 2)將制備的金屬鉭粘結(jié)層(2)在100~200℃保溫1~3h后在其表面獲得氧化鉭阻氧層(3),氧化鉭阻氧層(3)厚度小于1μm; 3)在氧化鉭阻氧層(3)的表面通過(guò)大氣等離子噴涂氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層(4);大氣等離子噴涂工藝參數(shù)為:噴槍功率為43~50kW,噴槍距離為130~200mm,氬氣和氫氣的氣流量分別為4312和4113slpm,進(jìn)料速度為40~52gmin,噴槍速度為160~300mms,噴涂時(shí)間為2~5min;制備氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層(4)的材料為Ta2O5和MTaO4,其中Ta2O5的質(zhì)量分?jǐn)?shù)為21~35%,Ta2O5為粒徑小于10nm的球形粉體,涂層厚度為50~120μm,氣孔率小于3%; 4)在氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層(4)的表面通過(guò)大氣等離子噴涂鉭酸鹽環(huán)境障涂層(5);大氣等離子噴涂工藝參數(shù)為:噴槍功率為46~55kW,噴槍距離為100~230mm,氬氣和氫氣的氣流量分別為4312和4113slpm,進(jìn)料速度為45~52gmin,噴槍速度為200~300mms,噴涂時(shí)間為3~6min;制備鉭酸鹽環(huán)境障涂層(5)的材料為MTaO4,涂層厚度為60~100μm,氣孔率小于5%;氧化鉭鉭酸鹽復(fù)合過(guò)渡層(4)與鉭酸鹽環(huán)境障涂層(5)中MTaO4的M為同一元素,為Sc和Al中的一種;所述高結(jié)合強(qiáng)度強(qiáng)阻氧環(huán)境障涂層與碳化硅復(fù)合材料基底的結(jié)合強(qiáng)度大于40MPa,氧化失重小于3%。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人昆明理工大學(xué);上海航天精密機(jī)械研究所,其通訊地址為:650500 云南省昆明市一二一大街文昌路68號(hào);或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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