恭喜福建省晉華集成電路有限公司賴惠先獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜福建省晉華集成電路有限公司申請的專利存儲器獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114050156B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111335128.X，技術領域涉及：H10B12/00；該發明授權存儲器是由賴惠先;林昭維;朱家儀;童宇誠;呂前宏設計研發完成，并于2020-01-21向國家知識產權局提交的專利申請。
本存儲器在說明書摘要公布了：本發明提供了一種存儲器。針對邊緣位置的第一位線，使其靠近記憶體區的一側設置有第一絕緣接觸柱，以及靠近周邊區的一側設置有第二絕緣接觸柱，從而使第一絕緣接觸柱和對應的有源區即，位于邊緣位置的有源區之間為電性絕緣，進而使得所形成的位于邊緣位置的存儲單元構成非功能性存儲單元。如此，即避免了邊緣位置的非功能性存儲單元由于其性能異常而對存儲器的器件性能造成不利影響。
本發明授權存儲器在權利要求書中公布了：1.一種存儲器，其特征在于，包括：襯底，所述襯底上定義有記憶體區和周邊區，所述周邊區位于所述記憶體區的外側，以及所述襯底的所述記憶體區中形成有多個有源區；位線組，形成在所述襯底的所述記憶體區中，所述位線組包括多條沿著預定方向延伸的位線，所述位線與所述多個有源區中對應的有源區相交，以及所述位線組中排布在邊緣位置的位線構成第一位線，所述位線組中位于所述第一位線遠離周邊區一側的位線構成第二位線；以及，在所述第一位線靠近所述第二位線的一側設置有第一絕緣接觸柱，在所述第一位線遠離所述第二位線的一側上設置有第二絕緣接觸柱，所述第一絕緣接觸柱形成在記憶體區中并和相接觸的有源區電性絕緣，所述第二絕緣接觸柱形成在周邊區中，并且所述第一絕緣接觸柱的頂表面還高于所述第二絕緣接觸柱的頂表面。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人福建省晉華集成電路有限公司，其通訊地址為：362200 福建省泉州市晉江市集成電路科學園聯華大道88號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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