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龍圖騰網(wǎng)恭喜朗姆研究公司申請(qǐng)的專利包含光學(xué)探針的電化學(xué)沉積系統(tǒng)獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN114174562B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-10發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202080053306.7，技術(shù)領(lǐng)域涉及：C25D17/00；該發(fā)明授權(quán)包含光學(xué)探針的電化學(xué)沉積系統(tǒng)是由安德魯·詹姆斯·普福;尚蒂納特·小古艾迪;何治安;馬尼什·蘭詹設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2020-05-19向國家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本包含光學(xué)探針的電化學(xué)沉積系統(tǒng)在說明書摘要公布了：一種電化學(xué)沉積系統(tǒng)包括：電化學(xué)沉積室，其包括用于電化學(xué)沉積的電解液；襯底保持器，其被配置成保持襯底并且包括與所述襯底電氣連接的第一陰極；第一致動(dòng)器，其被配置成調(diào)整所述襯底保持器在所述電化學(xué)沉積室中的豎直位置；陽極，其浸沒在所述電解液中；第二陰極，其被配置成在所述第一陰極與所述陽極之間；第一光學(xué)探針，其被配置成，當(dāng)所述襯底被浸沒在所述電解液中時(shí)，在距離所述襯底的中心第一距離處測(cè)量所述襯底的第一反射率；以及控制器，其被配置成在所述電化學(xué)沉積的期間，基于所述襯底的所述第一反射率而選擇性地調(diào)整施加至所述第一陰極的功率、施加至所述第二陰極的功率、施加至所述陽極的功率、以及所述襯底保持器的所述豎直位置中的至少一者。

本發(fā)明授權(quán)包含光學(xué)探針的電化學(xué)沉積系統(tǒng)在權(quán)利要求書中公布了：1.一種電化學(xué)沉積系統(tǒng)，其包括：電化學(xué)沉積室，其包括用于電化學(xué)沉積的電解液；襯底保持器，其被配置成保持襯底并且包括與所述襯底電氣連接的第一陰極；第一致動(dòng)器，其被配置成調(diào)整所述襯底保持器在所述電化學(xué)沉積室中的豎直位置；陽極，其浸沒在所述電解液中；第二陰極，其被配置成在所述第一陰極與所述陽極之間；第一光學(xué)探針，其被配置成在所述電化學(xué)沉積的期間，當(dāng)所述襯底被浸沒在所述電解液中時(shí)，在距離所述襯底的中心第一距離處測(cè)量所述襯底的第一反射率；以及控制器，其被配置成在所述電化學(xué)沉積的期間，基于所述襯底的所述第一反射率而選擇性地調(diào)整i施加至所述第一陰極的功率、ii施加至所述第二陰極的功率、iii施加至所述陽極的功率、以及iv所述襯底保持器的所述豎直位置中的至少一者。

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