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龍圖騰網(wǎng)恭喜ASML荷蘭有限公司申請的專利用于確定測量選配方案的方法和相關(guān)聯(lián)的設(shè)備獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN114902140B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-10發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202080088939.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G03F7/20；該發(fā)明授權(quán)用于確定測量選配方案的方法和相關(guān)聯(lián)的設(shè)備是由W·T·特爾;A·J·范萊斯特設(shè)計研發(fā)完成，并于2020-12-17向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本用于確定測量選配方案的方法和相關(guān)聯(lián)的設(shè)備在說明書摘要公布了：披露了一種用于確定測量選配方案的方法，所述測量選配方案描述用于對來自經(jīng)受蝕刻引發(fā)的參數(shù)誤差影響的襯底的所關(guān)注的參數(shù)進行測量的測量設(shè)定，所述蝕刻引發(fā)的參數(shù)誤差以取決于選配方案的方式影響對所述所關(guān)注的參數(shù)的測量。所述方法包括：獲得與對至少一個調(diào)試襯底的測量有關(guān)的所關(guān)注的參數(shù)的調(diào)試數(shù)據(jù)，所述至少一個調(diào)試襯底上的所述所關(guān)注的參數(shù)具有多種第一引發(fā)調(diào)整值；以及獲得與對至少一個調(diào)試襯底的測量有關(guān)的蝕刻引發(fā)的參數(shù)的調(diào)試數(shù)據(jù)，所述至少一個調(diào)試襯底上的所述蝕刻引發(fā)的參數(shù)具有多種第二引發(fā)調(diào)整值。確定所述選配方案以最小化所述蝕刻引發(fā)的參數(shù)對于對所述所關(guān)注的參數(shù)的測量的影響。

本發(fā)明授權(quán)用于確定測量選配方案的方法和相關(guān)聯(lián)的設(shè)備在權(quán)利要求書中公布了：1.一種用于確定測量選配方案的方法，所述測量選配方案描述用于對來自經(jīng)受蝕刻引發(fā)的參數(shù)誤差影響的襯底的所關(guān)注的參數(shù)進行測量的測量設(shè)定，所述蝕刻引發(fā)的參數(shù)誤差以取決于選配方案的方式影響對所述所關(guān)注的參數(shù)的測量；所述方法包括：獲得與對至少一個調(diào)試襯底的測量有關(guān)的所關(guān)注的參數(shù)的調(diào)試數(shù)據(jù)，所述至少一個調(diào)試襯底上的所述所關(guān)注的參數(shù)具有多種第一引發(fā)調(diào)整值；獲得與對至少一個調(diào)試襯底的測量有關(guān)的蝕刻引發(fā)的參數(shù)的調(diào)試數(shù)據(jù)，所述至少一個調(diào)試襯底上的所述蝕刻引發(fā)的參數(shù)具有多種第二引發(fā)調(diào)整值；以及確定所述選配方案以最小化所述蝕刻引發(fā)的參數(shù)對于對所述所關(guān)注的參數(shù)的測量的影響。

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