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恭喜株式會社維納科斯巖崎修獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜株式會社維納科斯申請的專利異物/缺陷檢查裝置、異物/缺陷檢查中的圖像生成裝置以及異物/缺陷檢查方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115803608B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202180049060.0,技術領域涉及:G01N21/88;該發明授權異物/缺陷檢查裝置、異物/缺陷檢查中的圖像生成裝置以及異物/缺陷檢查方法是由巖崎修;香川幸大設計研發完成,并于2021-06-15向國家知識產權局提交的專利申請。

異物/缺陷檢查裝置、異物/缺陷檢查中的圖像生成裝置以及異物/缺陷檢查方法在說明書摘要公布了:由受光元件陣列光電二極管陣列的至少一個受光元件構成的一像素單位與光源一對一地對應,僅在光源發光時,由與該光源對應的至少一個受光元件一像素單位檢測光束。照明光學系統包含導光單元,該導光單元使從多個光源射出的各光束的光軸的間隔在該多個光源的排列方向上縮小而向檢查對象物引導各光束。

本發明授權異物/缺陷檢查裝置、異物/缺陷檢查中的圖像生成裝置以及異物/缺陷檢查方法在權利要求書中公布了:1.一種異物缺陷檢查裝置,其特征在于,所述異物缺陷檢查裝置具備:照明光學系統,其包含光掃描單元,該光掃描單元掃描對從呈線狀地分隔排列的多個光源向具有光散射性的檢查對象物中的至少一個以上的檢查面射出的光進行準直而得到的光束、或對準直后的光束進一步進行大致聚光而得到的光束;受光光學系統,其以所述光源和由至少一個受光元件構成的一像素單位一對一地對應的方式與所述照明光學系統的掃描方向平行地配置,該受光光學系統包含多個受光元件,透射所述檢查對象物的檢查面后的所述光束照射到位于該檢查對象物的異物或缺陷,所述多個受光元件接收來自該異物或缺陷的散射光、擴散光、或者被吸收擴散反射、被透射擴散的具有強弱的光;以及檢測單元,其僅利用對應的受光元件檢測來自所述照明光學系統的主掃描方向的任意位置處的所述光源的光束,由所述至少一個受光元件構成的一像素單位的空間分辨率為檢查對象物的檢查面上的由照明光學系統形成的所述光束的空間分辨率以上,所述照明光學系統包含導光單元,該導光單元使從所述多個光源射出的各光束的光軸的間隔在該多個光源的排列方向上縮小而向檢查對象物引導各光束。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人株式會社維納科斯,其通訊地址為:日本香川縣;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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