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龍圖騰網恭喜智騰科技股份有限公司申請的專利基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法、計算機系統及介質獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN114004729B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-06-10發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202111270847.8，技術領域涉及：G06T1/20；該發明授權基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法、計算機系統及介質是由陳國晉設計研發完成，并于2021-10-29向國家知識產權局提交的專利申請。

本基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法、計算機系統及介質在說明書摘要公布了：基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法、計算機系統及介質，為了解決掩膜優化的問題，對所獲得的掩膜圖像以及卷積核分別進行FFT運算，相應得到FFT結果，再通過FFT進行光刻模型演算，獲得光刻結果，通過GPU優化函數減少光刻目標和光刻結果的誤差，通過GPU梯度函數優化光刻結果，效果是實現光刻加速模型算法效率高。

本發明授權基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法、計算機系統及介質在權利要求書中公布了：1.一種基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法，其特征在于，包括讀取原始光刻掩膜的目標圖像，通過像素級并行的移動處理來獲得掩膜邊界，通過GPU對所有的邊界進行并行計算獲得水平集掩膜，對所獲得的掩膜圖像以及卷積核分別進行FFT運算，相應得到FFT結果，再通過FFT進行光刻模型演算，獲得光刻結果，通過GPU優化函數減少光刻目標和光刻結果的誤差,通過GPU梯度函數優化光刻結果；所述的基于GPU加速水平集進行逆光刻掩膜優化的方法，其特征在于，還包括水平集掩膜更新的步驟；水平集光刻掩膜表示： C表示光刻掩膜的邊界，φx,y表示對應的水平集合函數,x,y表示圖像中的像素坐標，inside代表在邊界中，outside代表在邊界外；GPU優化函數： x,y表示圖像中的像素坐標，Z代表通過GPU算法生成的掩膜圖像，Zt代表光刻掩膜目標圖像，γ代表相關指數，N代表圖片的寬度和高度；GPU梯度函數： M代表掩膜圖像，Z代表GPU生成的光刻結果，Zt代表目標圖像，γ為參數，θz為sigmoid函數的斜率，Hflip為卷積核的180度翻轉，H為卷積核，代表卷積操作，H代表卷積核，⊙代表點乘操作；水平集更新： 其中φi+1x,y代表更新后的水平集函數，i代表第i次更新，Δt代表更新步長，t代表時間；通過計算統一設備架構編程模型CUDA編寫的快速傅里葉變換FFT程序直接調用GPU的計算資源。

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