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龍圖騰網(wǎng)恭喜北京懷柔實(shí)驗(yàn)室申請的專利高關(guān)斷能力的功率半導(dǎo)體器件以及制備方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN119922927B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-06-03發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202510372595.1，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H10D18/00；該發(fā)明授權(quán)高關(guān)斷能力的功率半導(dǎo)體器件以及制備方法是由王耀華;魏曉光;苑廣安;劉瑞;李玲;唐新靈;李立;高明超設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2025-03-27向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本高關(guān)斷能力的功率半導(dǎo)體器件以及制備方法在說明書摘要公布了：本發(fā)明涉及報(bào)半導(dǎo)體技術(shù)領(lǐng)域，公開一種高關(guān)斷能力的功率半導(dǎo)體器件以及制備方法，所述器件包括：單元胞結(jié)構(gòu)，包括：形成依次層疊的陽極結(jié)構(gòu)、基區(qū)結(jié)構(gòu)、陰極結(jié)構(gòu)、門極結(jié)構(gòu)，基區(qū)結(jié)構(gòu)包括浮結(jié)區(qū)，該浮結(jié)區(qū)與基區(qū)結(jié)構(gòu)的摻雜類型相反，浮結(jié)區(qū)包括上平臺區(qū)、下平臺區(qū)以及連接兩平臺區(qū)的波狀區(qū)，浮結(jié)區(qū)采用局部輻照并通過金屬擋板在基區(qū)結(jié)構(gòu)中形成且用于將陽極結(jié)構(gòu)與陰極結(jié)構(gòu)之間路徑上的電流分流至陰極結(jié)構(gòu)與門極結(jié)構(gòu)之間的區(qū)域及在該區(qū)域以動(dòng)態(tài)雪崩方式促進(jìn)載流子的重新分布。本發(fā)明可減小陰極結(jié)構(gòu)外側(cè)邊緣處的基區(qū)橫向壓降，以達(dá)到陰極結(jié)構(gòu)與門極結(jié)構(gòu)快速換流的效果，有效防止因局部電流的匯聚出現(xiàn)重觸發(fā)而導(dǎo)致器件擊穿，有效提高器件的關(guān)斷能力。

本發(fā)明授權(quán)高關(guān)斷能力的功率半導(dǎo)體器件以及制備方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種高關(guān)斷能力的功率半導(dǎo)體器件，其特征在于，所述功率半導(dǎo)體器件包括：單元胞結(jié)構(gòu)，所述單元胞結(jié)構(gòu)包括：形成依次層疊的陽極結(jié)構(gòu)、基區(qū)結(jié)構(gòu)、陰極結(jié)構(gòu)、門極結(jié)構(gòu)，其中，所述基區(qū)結(jié)構(gòu)包括浮結(jié)區(qū)，所述浮結(jié)區(qū)的摻雜類型與所述基區(qū)結(jié)構(gòu)的摻雜類型相反，且所述浮結(jié)區(qū)包括上平臺區(qū)、下平臺區(qū)以及用于連接所述上平臺區(qū)與所述下平臺區(qū)的波狀區(qū)，其中所述上平臺區(qū)與所述下平臺區(qū)在沿層疊方向的投影不相互交疊，其中，所述浮結(jié)區(qū)采用局部輻照方式并通過金屬擋板在所述基區(qū)結(jié)構(gòu)中形成，以及其中，所述浮結(jié)區(qū)，用于將所述陽極結(jié)構(gòu)與所述陰極結(jié)構(gòu)之間路徑上的電流分流至所述陰極結(jié)構(gòu)與所述門極結(jié)構(gòu)之間的區(qū)域，并且在所述陰極結(jié)構(gòu)與所述門極結(jié)構(gòu)之間的區(qū)域以動(dòng)態(tài)雪崩方式促進(jìn)載流子的重新分布。

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