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龍圖騰網恭喜朗姆研究公司申請的專利由削減式工藝形成的金屬互連結構獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113169117B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：201980079243.X，技術領域涉及：H01L21/768；該發明授權由削減式工藝形成的金屬互連結構是由托馬斯·韋勒·芒特斯爾設計研發完成，并于2019-11-15向國家知識產權局提交的專利申請。

本由削減式工藝形成的金屬互連結構在說明書摘要公布了：通過在形成兩個相鄰的金屬化層之后形成一或更多個通孔，可制造集成電路的金屬互連結構。該一或更多個通孔與第一金屬化層以及第二金屬化層完全對準。在金屬互連結構的加工期間，硬掩模材料或其他絕緣隔離材料被留在第一金屬化層以及第二金屬化層的頂部上。對其中硬掩模材料或其他絕緣隔離材料中的一些進行蝕刻，然后利用導電材料將其回填以形成一或更多個通孔，其中該一或更多個通孔容納于不與周圍介電材料重疊的空間內。

本發明授權由削減式工藝形成的金屬互連結構在權利要求書中公布了：1.一種制造金屬互連結構的方法，該方法包含：通過削減式圖案化在襯底上形成第一圖案化金屬線層；在所述第一圖案化金屬線層上形成多個第一絕緣特征；在形成所述多個第一絕緣特征后，在所述第一圖案化金屬線層的相鄰金屬線之間的空間中形成第一介電材料；通過削減式圖案化在所述第一圖案化金屬線層上方形成第二圖案化金屬線層；在所述第二圖案化金屬線層上形成多個第二絕緣特征；以及在形成所述多個第二絕緣特征后，在所述第二圖案化金屬線層的相鄰金屬線之間的空間中形成第二介電材料；在形成所述第二圖案化金屬線層后，形成在所述第一圖案化金屬線層與所述第二圖案化金屬線層之間提供電互連的一或更多個通孔，以形成所述金屬互連結構，其中形成所述一或更多個通孔包含：蝕刻穿過一或更多個第二絕緣特征，其中蝕刻穿過所述一或更多個第二絕緣特征的操作相對于包圍所述一或更多個第二絕緣特征的所述第二介電材料具有選擇性；蝕刻穿過所述第二圖案化金屬線層，其中蝕刻穿過所述第二圖案化金屬線層的操作相對于包圍所述第二圖案化金屬線層的所述第二介電材料具有選擇性；蝕刻穿過一或更多個第一絕緣特征以形成一或更多個通孔開口，以使所述第一圖案化金屬線層暴露，其中蝕刻穿過所述一或更多個第一絕緣特征的操作相對于包圍所述一或更多個第一絕緣特征的所述第一介電材料具有選擇性；以及在所述一或更多個通孔開口中沉積導電材料，以在暴露的所述第一圖案化金屬線層上形成所述一或更多個通孔。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人朗姆研究公司，其通訊地址為：美國加利福尼亞州；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。