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龍圖騰網恭喜富士膠片株式會社申請的專利感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及電子器件的制造方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115349108B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-30發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180024024.9，技術領域涉及：G03F7/004；該發明授權感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及電子器件的制造方法是由三好太朗;福崎英治設計研發完成，并于2021-03-17向國家知識產權局提交的專利申請。

本感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及電子器件的制造方法在說明書摘要公布了：本發明提供一種感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、由上述感光化射線性或感放射線性樹脂組合物形成的感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及電子器件的制造方法，所述感光化射線性或感放射線性樹脂組合物含有A通過酸的作用而極性增加的樹脂及B通過光化射線或放射線的照射而產生酸的化合物，該化合物由特定的通式表示，其中，上述樹脂A包含由特定的通式表示的重復單元。

本發明授權感光化射線性或感放射線性樹脂組合物、感光化射線性或感放射線性膜、圖案形成方法及電子器件的制造方法在權利要求書中公布了：1.一種感光化射線性或感放射線性樹脂組合物，其含有：樹脂A：通過酸的作用而極性增加；及化合物B；通過光化射線或放射線的照射而產生酸，且由下述通式I表示，所述樹脂A包含由下述通式AI表示的重復單元， 通式AI中，RA、RB及RC分別獨立地表示氫原子、烷基、環烷基、鹵原子、氰基或烷氧基羰基，其中，RC任選地與ArA鍵合而形成環，此時的RC表示單鍵或亞烷基，LA表示單鍵或2價的連接基，ArA表示n+1價的芳香環基，當ArA與RC鍵合而形成環時，表示n+2價的芳香環基，n表示1～5的整數， 通式I中，M1+及M2+分別獨立地表示陽離子，X表示單鍵或m+1價的連接基，A1-及A2-分別獨立地表示陰離子性基團，A1-表示與由A2-表示的酸陰離子基團不同的結構，m表示1或2，當m表示2時，多個M1+相同或不同，當m表示2時，多個A1-相同或不同，其中，由通式I表示的化合物的M1+及M2+分別被氫原子取代的化合物PI具有由HA1表示的基團的酸解離常數a1及由A2H表示的基團的酸解離常數a2，酸解離常數a1低于酸解離常數a2，酸解離常數a1為-1.5以上。

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