恭喜英特爾公司V·H·勒獲國(guó)家專利權(quán)
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龍圖騰網(wǎng)恭喜英特爾公司申請(qǐng)的專利用于晶體管的柵極獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán),本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予,授權(quán)公告號(hào)為:CN110383490B 。
龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉:該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為:201780087753.2,技術(shù)領(lǐng)域涉及:H10D30/67;該發(fā)明授權(quán)用于晶體管的柵極是由V·H·勒;A·A·夏爾馬;R·皮拉里塞泰;G·W·杜威;S·希瓦拉曼;T·A·特羅尼克;S·加德納;T·加尼設(shè)計(jì)研發(fā)完成,并于2017-03-31向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。
本用于晶體管的柵極在說(shuō)明書(shū)摘要公布了:公開(kāi)了用于一種設(shè)備的襯底、組件和技術(shù),其中所述設(shè)備包括:柵極,其中,柵極包括第一柵極側(cè)和與所述第一柵極側(cè)相對(duì)的第二柵極側(cè);柵極上的柵極電介質(zhì),其中柵極電介質(zhì)包括第一柵極電介質(zhì)側(cè)和與第一柵極電介質(zhì)側(cè)相對(duì)的第二柵極電介質(zhì)側(cè);第一電介質(zhì),其中第一電介質(zhì)鄰接第一柵極側(cè)、第一柵極電介質(zhì)側(cè)、第二柵極側(cè)和第二柵極電介質(zhì)側(cè);溝道,其中柵極電介質(zhì)在溝道和柵極之間;與溝道耦合的源極;以及與溝道耦合的漏極,其中第一電介質(zhì)鄰接源極和漏極。在示例中,第一電介質(zhì)和柵極電介質(zhì)有助于使柵極與溝道、源極和漏極絕緣。
本發(fā)明授權(quán)用于晶體管的柵極在權(quán)利要求書(shū)中公布了:1.一種設(shè)備,包括:柵極,其中,所述柵極包括第一柵極側(cè)和與所述第一柵極側(cè)相對(duì)的第二柵極側(cè);所述柵極上的柵極電介質(zhì),其中,所述柵極電介質(zhì)包括第一柵極電介質(zhì)側(cè)和與所述第一柵極電介質(zhì)側(cè)相對(duì)的第二柵極電介質(zhì)側(cè);第一電介質(zhì),其中,所述第一電介質(zhì)鄰接所述第一柵極側(cè)、所述第一柵極電介質(zhì)側(cè)、所述第二柵極側(cè)和所述第二柵極電介質(zhì)側(cè);溝道,其中,所述柵極電介質(zhì)在所述溝道和所述柵極之間;與所述溝道耦合的源極;與所述溝道耦合的漏極,其中,所述第一電介質(zhì)鄰接所述源極和所述漏極;以及處于所述第一電介質(zhì)的一部分和所述源極之間的第二電介質(zhì)。
如需購(gòu)買、轉(zhuǎn)讓、實(shí)施、許可或投資類似專利技術(shù),可聯(lián)系本專利的申請(qǐng)人或?qū)@麢?quán)人英特爾公司,其通訊地址為:美國(guó)加利福尼亞;或者聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)官方客服,聯(lián)系龍圖騰網(wǎng)可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網(wǎng)”。
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