恭喜小林股份有限公司酒井圭介獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜小林股份有限公司申請的專利離型膜以及離型膜的制造方法獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN114761198B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-27發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202080072700.5,技術領域涉及:B29C33/68;該發明授權離型膜以及離型膜的制造方法是由酒井圭介;田中奈名恵設計研發完成,并于2020-03-06向國家知識產權局提交的專利申請。
本離型膜以及離型膜的制造方法在說明書摘要公布了:本發明涉及提供一種具有靜電擴散性的離型膜。本發明提供一種離型膜,具有:基材層,由聚酯類樹脂形成;以及表面層,由含有導電性填料的四氟乙烯類樹脂形成;并且表面電阻率Rs為1×1011Ω以下。優選為所述導電性填料包含碳黑,并且所述四氟乙烯類樹脂進而含有依據雷射繞射式粒度分析測定法測定時的平均粒徑為1μm至15μm的粒子。
本發明授權離型膜以及離型膜的制造方法在權利要求書中公布了:1.一種離型膜,具有:基材層,由聚酯類樹脂所形成;以及表面層,由含有導電性填料的四氟乙烯類樹脂所形成;并且,表面電阻率Rs為1×1011Ω以下;所述導電性填料包含碳黑;所述碳黑包含科琴黑,所述科琴黑的平均粒徑依據雷射繞射式粒度分析測定法測定時為3μm至17μm;所述碳黑進而包含爐黑;所述爐黑的鄰苯二甲酸二正丁酯吸油量為200ml100g以下;所述四氟乙烯類樹脂為含有含反應性官能基的四氟乙烯類聚合物及硬化劑的四氟乙烯類樹脂組合物的硬化物;所述含反應性官能基的四氟乙烯類聚合物含有基于含羥基的單體的聚合單元及基于全氟烯烴的聚合單元;所述四氟乙烯類樹脂包含二氧化硅粒子;所述二氧化硅粒子的平均粒徑依據雷射繞射式粒度分析測定法測定時為1μm至15μm;并且所述二氧化硅粒子相對于所述四氟乙烯類樹脂100質量份的量為3質量份至30質量份。
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