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龍圖騰網(wǎng)恭喜美光科技公司申請的專利導(dǎo)電互連件和形成導(dǎo)電互連件的方法獲國家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國家知識產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號為：CN113257736B 。

龍圖騰網(wǎng)通過國家知識產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-27發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請?zhí)?專利號為：202110052889.8，技術(shù)領(lǐng)域涉及：H01L21/768；該發(fā)明授權(quán)導(dǎo)電互連件和形成導(dǎo)電互連件的方法是由R·艾哈邁德;F·斯佩蒂延斯;D·S·米勒;S·N·S·查拉馬拉塞蒂;D·普拉特;胡怡;宋勇達;A·K·保謝爾;A·R·吉布森設(shè)計研發(fā)完成，并于2021-01-15向國家知識產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請。

本導(dǎo)電互連件和形成導(dǎo)電互連件的方法在說明書摘要公布了：本公開涉及導(dǎo)電互連件和形成導(dǎo)電互連件的方法。一些實施例包含一種形成集成式組合件的方法。形成包含延伸穿過絕緣塊體的導(dǎo)電柱的布置。使所述導(dǎo)電柱的上表面凹入以形成腔。在所述腔內(nèi)形成絕緣襯圈以為所述腔的外部橫向周邊加襯。所述導(dǎo)電柱的凹入表面在所述經(jīng)加襯腔的底部暴露。在所述絕緣塊體上方形成導(dǎo)電闊區(qū)。所述導(dǎo)電闊區(qū)的一部分延伸到所述腔中并且配置為互連件。將所述導(dǎo)電闊區(qū)圖案化成多個導(dǎo)電結(jié)構(gòu)。所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)中的一個包含所述互連件。

本發(fā)明授權(quán)導(dǎo)電互連件和形成導(dǎo)電互連件的方法在權(quán)利要求書中公布了：1.一種形成集成式組合件的方法，其包括：形成包含導(dǎo)電襯里和延伸穿過絕緣塊體的導(dǎo)電柱的布置；使所述導(dǎo)電襯里和所述導(dǎo)電柱的上表面凹入以形成腔，所述凹入使所述導(dǎo)電襯里的部分在高度上延伸至所述導(dǎo)電柱的所述上表面之上；在所述腔內(nèi)形成絕緣襯圈以為所述腔的外部橫向周邊加襯，所述導(dǎo)電柱的凹入表面在經(jīng)加襯的所述腔的底部暴露；在所述絕緣塊體上方形成導(dǎo)電闊區(qū)，所述導(dǎo)電闊區(qū)的一部分延伸到所述腔中并且配置為豎直延伸的互連件；和將所述導(dǎo)電闊區(qū)圖案化成多個導(dǎo)電結(jié)構(gòu)；所述導(dǎo)電結(jié)構(gòu)中的一個導(dǎo)電結(jié)構(gòu)包含所述豎直延伸的互連件。

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