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龍圖騰網恭喜愛思開海力士有限公司申請的專利用于使用反轉圖案形成圖案的方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN113889401B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202110054311.6，技術領域涉及：H01L21/033；該發明授權用于使用反轉圖案形成圖案的方法是由李政衡;樸薩漢;宋姝璃;林志英;鄭相禧設計研發完成，并于2021-01-15向國家知識產權局提交的專利申請。

本用于使用反轉圖案形成圖案的方法在說明書摘要公布了：本公開提供一種用于使用反轉圖案形成圖案的方法。在形成圖案的方法中，可以在下反轉層上形成第一上反轉圖案和第二上反轉圖案。可以形成緩沖層以填充由第一上反轉圖案提供的第一開口部分。可以形成遮蔽圖案以覆蓋緩沖層的第二區域。可以使用遮蔽圖案和第一上反轉圖案作為第一刻蝕掩模來執行刻蝕工藝，以形成第一下反轉圖案以及緩沖層圖案和與遮蔽圖案重疊的第二下反轉圖案，該第一下反轉圖案提供與第一開口部分重疊的第二開口部分。可以形成硬掩模層并進行刻蝕以分離填充第一開口部分和第二開口部分的硬掩模層第一圖案。可以使用硬掩模層第一圖案和第二上反轉圖案作為刻蝕掩模來執行刻蝕工藝，以形成與第二上反轉圖案重疊的第三下反轉圖案。

本發明授權用于使用反轉圖案形成圖案的方法在權利要求書中公布了：1.一種用于形成圖案的方法，所述方法包括：在包括第一區域和第二區域的半導體襯底上順序地形成第一硬掩模層、下反轉層和上反轉層；將所述上反轉層圖案化為位于所述第一區域上的第一上反轉圖案和位于所述第二區域上的第二上反轉圖案，并在所述第一上反轉圖案之間提供第一開口部分；形成緩沖層，所述緩沖層覆蓋所述第一上反轉圖案和所述第二上反轉圖案；形成遮蔽圖案，所述遮蔽圖案覆蓋所述緩沖層的位于所述第二區域上的第二部分，而留下所述緩沖層的位于所述第一區域上的第一部分被暴露；將所述下反轉層和所述緩沖層圖案化為第一下反轉圖案以及緩沖層圖案和與所述遮蔽圖案重疊的第二下反轉圖案，其中所述第一下反轉圖案提供分別與所述第一開口部分重疊的第二開口部分；形成第二硬掩模層，所述第二硬掩模層覆蓋所述第一上反轉圖案和所述緩沖層圖案；刻蝕所述第二硬掩模層以形成第二硬掩模層第一圖案和第二硬掩模層第二圖案，所述第二硬掩模層第一圖案填充所述第一開口部分和所述第二開口部分，所述第二硬掩模層第二圖案填充所述第一上反轉圖案與所述緩沖層圖案之間的空間；以及選擇性地去除所述第一上反轉圖案。

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