恭喜東華隆股份有限公司田辺崇臣獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜東華隆股份有限公司申請的專利皮膜形成方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN116648312B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202180085799.7，技術領域涉及：C23F11/00；該發明授權皮膜形成方法是由田辺崇臣;河內誠一郎;檜山耕作設計研發完成，并于2021-11-11向國家知識產權局提交的專利申請。
本皮膜形成方法在說明書摘要公布了：本發明的皮膜形成方法包括：第一工序，在金屬基材2的表面2a涂布含有聚硅氮烷的第一溶液，并加熱所述第一溶液，而在所述金屬基材2的表面2a形成第一皮膜1；以及第二工序，在所述第一皮膜1的表面1a涂布含有聚硅氮烷的第二溶液，以較所述第一工序的加熱溫度低的溫度進行加熱，而在所述第一皮膜1的表面1a形成第二皮膜3，所述第一皮膜的密度小于2.00gcm3，所述第二皮膜的密度為2.00gcm3以上。
本發明授權皮膜形成方法在權利要求書中公布了：1.一種皮膜形成方法，包括：第一工序，在金屬基材的表面涂布僅含有全氫聚硅氮烷作為聚硅氮烷的第一溶液，并較所述第一溶液中聚硅氮烷的二氧化硅轉化溫度低的溫度加熱所述第一溶液，而在所述金屬基材的表面形成第一皮膜；以及第二工序，在所述第一皮膜的表面涂布僅含有全氫聚硅氮烷作為聚硅氮烷的第二溶液，并以較所述第一工序的加熱溫度低且所述第二溶液中聚硅氮烷的二氧化硅轉化溫度以上的溫度進行加熱，而在所述第一皮膜的表面形成第二皮膜，較所述第一工序的加熱溫度低的溫度加熱形成的所述第二皮膜的密度，較所述第一皮膜的密度高，所述第一皮膜的密度小于2.00gcm3，所述第二皮膜的密度為2.00gcm3以上。
如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人東華隆股份有限公司，其通訊地址為：日本兵庫縣神戸市中央區港島南町六丁目4番4號；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。
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1、本報告根據公開、合法渠道獲得相關數據和信息，力求客觀、公正，但并不保證數據的最終完整性和準確性。
2、報告中的分析和結論僅反映本公司于發布本報告當日的職業理解，僅供參考使用，不能作為本公司承擔任何法律責任的依據或者憑證。
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