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恭喜湖南融創微電子有限公司蔡磊獲國家專利權

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龍圖騰網恭喜湖南融創微電子有限公司申請的專利一種NVM存儲單元獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN115172377B

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202210819854.7,技術領域涉及:H10B41/35;該發明授權一種NVM存儲單元是由蔡磊;陳強;楊國慶;劉祥遠;傅祎暉;肖海鵬設計研發完成,并于2022-07-13向國家知識產權局提交的專利申請。

一種NVM存儲單元在說明書摘要公布了:本發明適用于存儲技術領域,提供了一種NVM存儲單元,其包括襯底、設置于所述襯底上的四個子單元模塊以及PN結二極管,每個所述子單元模塊均包括一個NMOS管以及一個第一端與所述NMOS管的柵極連接N阱電容,四個所述子單元模塊中的所述N阱電容以及所述PN結二極管共用一個N阱。本發明中NVM存儲單元的PN結二極管可以在N阱反偏偏置下提供空穴,避免N阱電容在編程時進入深耗盡區,以提高編程的效率并降低編程電壓,從而降低編程高壓對NVM存儲單元的尺寸要求,進而縮小NVM存儲單元的面積,使其適用于大多數芯片。

本發明授權一種NVM存儲單元在權利要求書中公布了:1.一種NVM存儲單元,其特征在于,包括襯底、設置于所述襯底上的四個子單元模塊以及PN結二極管,每個所述子單元模塊均包括一個NMOS管以及一個第一端與所述NMOS管的柵極連接N阱電容,四個所述子單元模塊中的所述N阱電容以及所述PN結二極管共用一個N阱;四個所述子單元模塊中的所述NMOS管的漏極分別作為所述NVM存儲單元的四個漏端,四個所述子單元模塊中同列的兩個所述NMOS管的源極連接在一起以作為所述NVM存儲單元的一個源端,四個所述子單元模塊中同行的兩個所述N阱電容的第二端相互連接;所述PN結二極管的正極與第一組同行的兩個所述N阱電容的第二端連接,所述PN結二極管的負極與第二組同行的兩個所述N阱電容的第二端連接在一起以作為所述NVM存儲單元的控制端。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術,可聯系本專利的申請人或專利權人湖南融創微電子有限公司,其通訊地址為:410000 湖南省長沙市高新開發區尖山路18號中電軟件園二期A5棟;或者聯系龍圖騰網官方客服,聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。

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