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龍圖騰網恭喜安徽工業大學蕪湖技術創新研究院;安徽工業大學申請的專利一種可調節等離子體射流處理面積的裝置與方法獲國家發明授權專利權，本發明授權專利權由國家知識產權局授予，授權公告號為：CN115315054B 。

龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉：該發明授權的專利申請號/專利號為：202210876856.X，技術領域涉及：H05H1/26；該發明授權一種可調節等離子體射流處理面積的裝置與方法是由王濤;王信;楊偉智;陳思樂;李蒙;時禮平設計研發完成，并于2022-07-25向國家知識產權局提交的專利申請。

本一種可調節等離子體射流處理面積的裝置與方法在說明書摘要公布了：本發明公開了一種可調節等離子體射流處理面積的裝置與方法，涉及氣體放電以及大氣壓低溫等離子體技術領域，包括彈性圓盤、介質套管、金屬高壓電極、金屬殼體；介質套管與金屬殼體連接且可上下移動。接通電源并通入工作氣體，在彈性圓盤彎曲段和金屬殼體底部圍成的腔體內產生等離子體，并通過均布的多個射流孔射出，產生等離子體射流；通過旋擰介質套管，使得介質套管帶動彈性圓盤向下壓縮或向上回彈，從而改變彈性圓盤水平段面積，實現射流孔數量的調節，最終實現等離子體射流處理面積的可控調節。本發明具有結構簡單、操作簡便以及等離子體射流處理面積可調節范圍大且可實現在線調節等優點，極大增加了大氣壓等離子體射流的應用范圍。

本發明授權一種可調節等離子體射流處理面積的裝置與方法在權利要求書中公布了：1.一種可調節等離子體射流處理面積的裝置，其特征在于，包括：金屬殼體4，其底部開設有若干射流孔401，且所述金屬殼體4接地；彈性圓盤1，其安裝在所述金屬殼體4內部；介質套管2，其周側與金屬殼體4轉動連接且一端安裝在彈性圓盤1上，介質套管2的一側連接氣源；所述金屬殼體4的上端開設有與介質套管2相配合的頂部孔402，所述介質套管2與頂部孔402螺紋連接；金屬高壓電極3，其一端固定安裝在介質套管2上，另一端連接電源正極；所述彈性圓盤1由下至上依次包括彈性圓盤水平段101、彈性圓盤彎曲段102、彈性圓盤豎直段103；所述彈性圓盤水平段101為圓環狀結構；所述彈性圓盤彎曲段102為喇叭狀結構；所述彈性圓盤豎直段103為桶狀結構；彈性圓盤1的三個部分內部均為薄壁空腔的結構，以構成等離子體的形成空間。

如需購買、轉讓、實施、許可或投資類似專利技術，可聯系本專利的申請人或專利權人安徽工業大學蕪湖技術創新研究院;安徽工業大學，其通訊地址為：241000 安徽省蕪湖市弋江區高新產業園B5號樓；或者聯系龍圖騰網官方客服，聯系龍圖騰網可撥打電話0551-65771310或微信搜索“龍圖騰網”。