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龍圖騰網(wǎng)恭喜華芯程(杭州)科技有限公司申請(qǐng)的專利工藝窗口優(yōu)化方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端獲國(guó)家發(fā)明授權(quán)專利權(quán)，本發(fā)明授權(quán)專利權(quán)由國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局授予，授權(quán)公告號(hào)為：CN119312750B 。

龍圖騰網(wǎng)通過(guò)國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局官網(wǎng)在2025-05-23發(fā)布的發(fā)明授權(quán)授權(quán)公告中獲悉：該發(fā)明授權(quán)的專利申請(qǐng)?zhí)?專利號(hào)為：202411855058.4，技術(shù)領(lǐng)域涉及：G06F30/337；該發(fā)明授權(quán)工藝窗口優(yōu)化方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端是由余志堂設(shè)計(jì)研發(fā)完成，并于2024-12-17向國(guó)家知識(shí)產(chǎn)權(quán)局提交的專利申請(qǐng)。

本工藝窗口優(yōu)化方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端在說(shuō)明書(shū)摘要公布了：本申請(qǐng)?zhí)峁┕に嚧翱趦?yōu)化方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端，通過(guò)目標(biāo)函數(shù)優(yōu)化與數(shù)值規(guī)劃求解方法，解決了弱點(diǎn)和壞點(diǎn)區(qū)域光強(qiáng)對(duì)比度低、工藝窗口有限及成品缺陷率高的問(wèn)題。采用弱點(diǎn)和壞點(diǎn)區(qū)域光強(qiáng)對(duì)數(shù)斜率平方和作為優(yōu)化目標(biāo)，結(jié)合邊段移動(dòng)范圍、邊緣位置誤差及相互影響因素，建立合理優(yōu)化模型。同時(shí)引入稀疏矩陣、密矩陣等多種矩陣方法，提高了優(yōu)化效率與精度，實(shí)現(xiàn)了掩模圖形的精確優(yōu)化，擴(kuò)展了工藝窗口，降低了缺陷率，增強(qiáng)了工藝穩(wěn)定性和適應(yīng)性，顯著提升生產(chǎn)效率與產(chǎn)品質(zhì)量。

本發(fā)明授權(quán)工藝窗口優(yōu)化方法、裝置、介質(zhì)、程序產(chǎn)品及終端在權(quán)利要求書(shū)中公布了：1.一種工藝窗口優(yōu)化方法，其特征在于，包括：獲取原始掩模圖形；基于預(yù)設(shè)的光強(qiáng)對(duì)數(shù)斜率，在所述原始掩模圖形中執(zhí)行缺陷點(diǎn)位識(shí)別操作，以提取多個(gè)缺陷點(diǎn)位坐標(biāo)；對(duì)每個(gè)缺陷點(diǎn)位坐標(biāo)所在的掩模圖形執(zhí)行區(qū)域分區(qū)操作，以生成可優(yōu)化區(qū)域和不可優(yōu)化區(qū)域；其中，所述可優(yōu)化區(qū)域中含有一個(gè)或多個(gè)可優(yōu)化子區(qū)域；在每個(gè)所述可優(yōu)化子區(qū)域中提取多個(gè)待優(yōu)化邊段，并根據(jù)多個(gè)待優(yōu)化邊段生成相互影響矩陣；基于與當(dāng)前可優(yōu)化子區(qū)域?qū)?yīng)的線性約束條件和目標(biāo)函數(shù)，對(duì)所述相互影響矩陣執(zhí)行迭代優(yōu)化操作，以生成修正后邊段；使用修正后的邊段替換原始掩模圖形中相應(yīng)位置的邊段，以生成優(yōu)化掩模圖形。

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