恭喜深圳市三維機電設備有限公司易波獲國家專利權
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龍圖騰網恭喜深圳市三維機電設備有限公司申請的專利一種半導體加工用晶圓缺陷檢測設備獲國家發明授權專利權,本發明授權專利權由國家知識產權局授予,授權公告號為:CN119542204B 。
龍圖騰網通過國家知識產權局官網在2025-05-23發布的發明授權授權公告中獲悉:該發明授權的專利申請號/專利號為:202510080549.4,技術領域涉及:H01L21/67;該發明授權一種半導體加工用晶圓缺陷檢測設備是由易波;唐軒波;唐浩然;段小平設計研發完成,并于2025-01-20向國家知識產權局提交的專利申請。
本一種半導體加工用晶圓缺陷檢測設備在說明書摘要公布了:本發明屬于晶圓檢測設備技術領域,具體公開了一種半導體加工用晶圓缺陷檢測設備,包括框架,所述框架的內部底端一側設置有傳送帶一,所述框架的內部底端另一側設置有傳送帶二,所述傳送帶二的頂部固定連接有電子顯微鏡,所述電子顯微鏡用于檢測晶圓,所述框架的內部設置有空氣過濾機構,所述空氣過濾機構用于過濾空氣,所述框架的內部位于空氣過濾機構的鄰側設置有清理機構,所述清理機構用于晶圓的清理。通過清理機構、空氣過濾機構和烘干機構,能夠在晶圓檢測前進行清理和烘干,減少晶圓轉運的時間,提高了晶圓檢測的效率,同時由于轉運距離的減少,降低了晶圓表面附著雜質的概率,從而能夠提高晶圓檢測的準確性。
本發明授權一種半導體加工用晶圓缺陷檢測設備在權利要求書中公布了:1.一種半導體加工用晶圓缺陷檢測設備,包括框架(1),其特征在于,所述框架(1)的內部底端一側設置有傳送帶一(2),所述框架(1)的內部底端另一側設置有傳送帶二(3),所述傳送帶二(3)的頂部固定連接有電子顯微鏡(4),所述電子顯微鏡(4)用于檢測晶圓,所述框架(1)的內部設置有空氣過濾機構(5),所述空氣過濾機構(5)用于過濾空氣,所述框架(1)的內部位于空氣過濾機構(5)的鄰側設置有清理機構(6),所述清理機構(6)用于晶圓的清理,所述傳送帶一(2)的頂部設置有干燥機構(7),所述干燥機構(7)用于晶圓清理后的烘干,所述傳送帶一(2)用于傳輸晶圓,并能夠方便清理機構(6)和干燥機構(7)對晶圓進行清理和烘干,所述空氣過濾機構(5)和所述清理機構(6)的頂部均固定連接有固定柱(9),所述固定柱(9)的頂部固定連接在所述框架(1)的內部頂端,所述清理機構(6)包括清理桶(601),所述清理桶(601)的頂部固定連接在固定柱(9)的底部,所述清理桶(601)的外部底端固定連接有進氣環(602),所述清理桶(601)的底部固定連接有閥門(603),所述框架(1)的內部底端固定連接有裝水桶(604),所述裝水桶(604)的內部頂端固定連接有固定架(605),所述固定架(605)的中部固定連接有氣筒(606),所述氣筒(606)的內部滑動連接有限位圈(607),所述限位圈(607)的底部固定連接有內桿(608),所述內桿(608)的內部與所述氣筒(606)的內部之間固定連接有拉簧(609),所述氣筒(606)的頂部一側固定連接有放氣閥(610),所述裝水桶(604)的底部固定連接有過濾組件(8),所述過濾組件(8)遠離裝水桶(604)的一側轉動連接有進水管(611),所述氣筒(606)的頂部固定連接有連接氣管(612),所述連接氣管(612)遠離氣筒(606)的一端固定連接有自動閥(613),所述自動閥(613)遠離連接氣管(612)的一側固定連接在其中一個排氣管(505)的外部,所述內桿(608)的底部固定連接有壓水板(614),所述壓水板(614)的內部開設有多個漏水孔(615),所述壓水板(614)的底部位于漏水孔(615)的下方固定連接有槽框(616),所述槽框(616)的底部滑動連接有封堵塞(617)。
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